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发明公开
薄膜涂布装置及其方法和液体浸泡曝光装置及其方法无效

公开(公告)号：CN1707360A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200510076127.2

申请日：2005-06-08

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 北端匡树 , 今井伸一

IPC: G03F7/16 , G03F7/20 , H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/162

Abstract: 一种薄膜涂布装置及其方法和液体浸泡曝光装置及其方法，形成不含缺陷的品质好的抗蚀图案。从液体提供源经过粒子过滤装置(9)提供的药液(3)由滴出喷嘴(6)滴出在晶片表面。该粒子过滤装置(9)和滴出喷嘴(6)之间的管线上，安装着测定药液(3)中所含的气泡或粒子等微粒子状物质的量的微粒子测定装置(13)。再有，设置了常时收集进行导管开关的电磁控制阀(10)的控制电压值及微粒子测定装置(13)的测定值进行运算的运算装置(16)。在运算装置(16)中，算出一枚晶片涂布的药液中所含的微粒子状物质的数量，通过将该微粒子状物质的数与标准值比较，进行是否停止薄膜涂布装置的判定。

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