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公开(公告)号：CN1297955C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN200410091444.7
申请日：2004-11-22
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B5/855 , G11B5/74 , G11B5/865 , G11B13/045 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明的目的在于，在使具有在透光性的非磁性基体(2)上通过遮光性的强磁性薄膜(3)形成的信息信号排列图形的主信息载体(1)与预先进行了直流消磁的磁记录媒体相对配置的状态下，通过进行照射光(4)的照射且施加与直流消磁磁场极性相反的偏置磁场(5)复制记录与信息信号排列对应的记录磁化图形。由此，即使在磁记录媒体的矫顽磁力大而来自强磁性薄膜(3)的复制记录磁场不足的情况下，也可以通过光照射部进行加热使矫顽磁力降低而进行具有优良的信号性能的复制记录。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1619651A
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN200410091444.7
申请日：2004-11-22
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B5/855 , G11B5/74 , G11B5/865 , G11B13/045 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明的目的在于，在使具有在透光性的非磁性基体(2)上通过遮光性的强磁性薄膜(3)形成的信息信号排列图形的主信息载体(1)与预先进行了直流消磁的磁记录媒体相对配置的状态下，通过进行照射光(4)的照射且施加与直流消磁磁场极性相反的偏置磁场(5)复制记录与信息信号排列对应的记录磁化图形。由此，即使在磁记录媒体的矫顽磁力大而来自强磁性薄膜(3)的复制记录磁场不足的情况下，也可以通过光照射部进行加热使矫顽磁力降低而进行具有优良的信号性能的复制记录。
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公开(公告)号：CN101971258A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980109417.9
申请日：2009-04-08
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B15/60 , G11B15/00 , G11B15/62 , G11B23/502
Abstract: 本发明的目的在于提供一种磁记录重放装置，该磁记录重放装置使用在记录重放面上不含有粘合剂的金属薄膜型磁带(1)，对于必须长时间连续地进行记录重放的磁记录重放装置，也能良好地向磁带(1)供应润滑剂。具有在通过磁头(2)向磁带(1)进行记录重放时能向磁带(1)供应润滑剂的润滑剂供应单元(10)。根据该结构，对于必须连续工作的磁记录重放装置所使用的磁带(1)，在记录重放时，也能通过润滑剂供应单元(10)良好地供应润滑剂。
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公开(公告)号：CN100470370C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200410079817.9
申请日：2004-09-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G03F7/2014 , B82Y10/00 , G03F7/0035 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/865
Abstract: 本发明涉及一种形成抗蚀图的方法，通过在曝光中阻止光的不期望的衍射，可以形成精细的图案。该方法包括以下步骤：在基体1的表面上形成抗蚀膜2；通过使抗蚀膜2曝光且使其显影，在抗蚀膜2上形成突起252和抽气凹陷251；在将光掩膜31叠置在抗蚀膜2上的状态中，通过抽气凹陷251进行抽气，使抗蚀膜2和其中形成预定图案的光掩膜31紧密接触；以及使与光掩膜31图案相对应的抗蚀膜2的一部分曝光，其中形成的光掩膜31图案从面对突起252的区域延伸到面对抗蚀膜2上抽气凹陷251的区域。
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公开(公告)号：CN101971258B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200980109417.9
申请日：2009-04-08
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G11B15/60 , G11B15/00 , G11B15/62 , G11B23/502
Abstract: 本发明的目的在于提供一种磁记录重放装置，该磁记录重放装置使用在记录重放面上不含有粘合剂的金属薄膜型磁带(1)，对于必须长时间连续地进行记录重放的磁记录重放装置，也能良好地向磁带(1)供应润滑剂。具有在通过磁头(2)向磁带(1)进行记录重放时能向磁带(1)供应润滑剂的润滑剂供应单元(10)。根据该结构，对于必须连续工作的磁记录重放装置所使用的磁带(1)，在记录重放时，也能通过润滑剂供应单元(10)良好地供应润滑剂。
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公开(公告)号：CN1612045A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN200410079817.9
申请日：2004-09-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G03F7/2014 , B82Y10/00 , G03F7/0035 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/865
Abstract: 本发明涉及一种形成抗蚀图的方法，通过在曝光中阻止光的不期望的衍射，可以形成精细的图案。该方法包括以下步骤：在基体1的表面上形成抗蚀膜2；通过使抗蚀膜2曝光且使其显影，在抗蚀膜2上形成突起252和抽气凹陷251；在将光掩膜31叠置在抗蚀膜2上的状态中，通过抽气凹陷251进行抽气，使抗蚀膜2和其中形成预定图案的光掩膜31紧密接触；以及使与光掩膜31图案相对应的抗蚀膜2的一部分曝光，其中形成的光掩膜31图案从面对突起252的区域延伸到面对抗蚀膜2上抽气凹陷251的区域。
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