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公开(公告)号：CN110140424B
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN201780082248.9
申请日：2017-12-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波加热装置具有：加热室，其收纳被加热物；微波发生器，其构成为生成微波；波导管，其构成为将微波引导至加热室；以及电磁场分布调整装置，其设置在加热室内的壁面的至少一部分的二维区域。电磁场分布调整装置具有：多个金属片，它们以填充规定的二维区域的方式排列；以及开关，其设置在多个金属片中的相邻的两个金属片之间。开关经由两个导体部而与相邻的两个金属片连接，所述两个导体部分别设置于相邻的两个金属片，并且比相邻的两个金属片小。根据本方式，能够减少利用微波加热装置对被加热物进行加热时产生的加热不均。
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公开(公告)号：CN111183708A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201980003759.6
申请日：2019-09-06
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波处理装置具有：处理室，其收纳被加热物；微波供给部，其向处理室供给微波；以及谐振部，其在微波的频带中具有谐振频率。谐振部具有多个贴片谐振器，该多个贴片谐振器配置成沿着在构成处理室的金属壁面上产生的偏振面的方向排列至少3个贴片谐振器。根据本方式，能够对处理室内的驻波分布、即微波能量分布进行控制。
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公开(公告)号：CN110892789B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN201880041538.3
申请日：2018-06-28
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。根据本方式，通过对提供到处理室的频率进行控制，能够使谐振部的表面的阻抗发生变化。由此，能够对处理室内的驻波分布、即处理室内的微波能量分布进行控制。其结果是，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，能够对各被加热物实施期望的介电加热。
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公开(公告)号：CN110169200A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201780082422.X
申请日：2017-12-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波加热装置具有：加热室，其收纳被加热物；微波产生器，其构成为生成微波；波导管，其构成为将微波引导至加热室；以及电磁场分布调整装置，其设置于加热室内的规定的二维区域中。电磁场分布调整装置具有多个金属片和多个开关。多个金属片以填充该二维区域的方式排列。多个开关连接多个金属片。通过利用多个开关中的至少两个开关将多个金属片中的一个金属片与和该一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接，从而构成串联连接金属片列。根据本方式，能够实现抑制加热效率的降低并且更加均匀地加热被加热物的低成本的电磁场分布调整装置。
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公开(公告)号：CN108605390B
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN201780010310.3
申请日：2017-02-10
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 构成为具有加热室(103)，并且在作为形成加热室(103)的壁面的至少一部分的上壁面(108)上具有反射角度控制装置(118)，该反射角度控制装置(118)控制微波的反射角度，从而控制加热室(103)内的驻波分布。由此，在从微波放射装置(104)放射的微波不由被加热物(102)直接吸收而被壁面反射时，利用反射角度控制装置(118)控制微波的反射角度，因此，能够将加热室(103)内的驻波分布控制为与通常不同的分布，能够提高局部加热性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108605390A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780010310.3
申请日：2017-02-10
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 构成为具有加热室(103)，并且在作为形成加热室(103)的壁面的至少一部分的上壁面(108)上具有反射角度控制装置(118)，该反射角度控制装置(118)控制微波的反射角度，从而控制加热室(103)内的驻波分布。由此，在从微波放射装置(104)放射的微波不由被加热物(102)直接吸收而被壁面反射时，利用反射角度控制装置(118)控制微波的反射角度，因此，能够将加热室(103)内的驻波分布控制为与通常不同的分布，能够提高局部加热性能。
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公开(公告)号：CN110140424A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201780082248.9
申请日：2017-12-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波加热装置具有：加热室，其收纳被加热物；微波发生器，其构成为生成微波；波导管，其构成为将微波引导至加热室；以及电磁场分布调整装置，其设置在加热室内的壁面的至少一部分的二维区域。电磁场分布调整装置具有：多个金属片，它们以填充规定的二维区域的方式排列；以及开关，其设置在多个金属片中的相邻的两个金属片之间。开关经由两个导体部而与相邻的两个金属片连接，所述两个导体部分别设置于相邻的两个金属片，并且比相邻的两个金属片小。根据本方式，能够减少利用微波加热装置对被加热物进行加热时产生的加热不均。
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公开(公告)号：CN111183708B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN201980003759.6
申请日：2019-09-06
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波处理装置具有：处理室，其收纳被加热物；微波供给部，其向处理室供给微波；以及谐振部，其在微波的频带中具有谐振频率。谐振部具有多个贴片谐振器，该多个贴片谐振器配置成沿着在构成处理室的金属壁面上产生的偏振面的方向排列至少3个贴片谐振器。根据本方式，能够对处理室内的驻波分布、即微波能量分布进行控制。
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公开(公告)号：CN110169200B
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN201780082422.X
申请日：2017-12-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波加热装置具有：加热室，其收纳被加热物；微波产生器，其构成为生成微波；波导管，其构成为将微波引导至加热室；以及电磁场分布调整装置，其设置于加热室内的规定的二维区域中。电磁场分布调整装置具有多个金属片和多个开关。多个金属片以填充该二维区域的方式排列。多个开关连接多个金属片。通过利用多个开关中的至少两个开关将多个金属片中的一个金属片与和该一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接，从而构成串联连接金属片列。根据本方式，能够实现抑制加热效率的降低并且更加均匀地加热被加热物的低成本的电磁场分布调整装置。
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公开(公告)号：CN110892789A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880041538.3
申请日：2018-06-28
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。根据本方式，通过对提供到处理室的频率进行控制，能够使谐振部的表面的阻抗发生变化。由此，能够对处理室内的驻波分布、即处理室内的微波能量分布进行控制。其结果是，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，能够对各被加热物实施期望的介电加热。
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