半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN101510558A

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200910007504.5

    申请日:2009-02-11

    CPC classification number: H01L29/7393 H01L29/063 H01L29/66325

    Abstract: 本发明提供一种电力用半导体装置,可以确保足够的基板强度,同时,可以形成低导通电阻、高耐压,提高开关速度。它包括:形成在P型半导体基板(1)上的N型表面降场区(2);在半导体基板(1)上部、与表面降场区(2)相邻的P型基区(3);在基区(3)上、离开表面降场区(2)的N型发射极/源极区(8);在基区(3)上、与发射极/源极区(8)相邻的P型基极连接区(10);从发射极/源极区(8)上起、在基区(3)上和表面降场区(2)上形成的栅绝缘膜(6)和栅极(7);以及在表面降场区(2)上、离开基区(3)的P型集电区(4)。半导体基板(1)被导入了晶格缺陷,使得其电阻值变为由添加在半导体基板(1)的杂质浓度决定的电阻值的2倍以上。

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