荧光测定装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1821753A

    公开(公告)日:2006-08-23

    申请号:CN200610008610.1

    申请日:2006-02-17

    Abstract: 本发明提供一种荧光测定装置,在保持待测试样的基板41上,形成反射从该基板41的上方照射的激励光e1并可透过由上述试样所发出的荧光f1的电介质多层膜42,并由该电介质多层膜42反射激励光e2,由受光部分44检测出透过的荧光f1。根据本发明,可以消除由基板的自身荧光和来自激励光的受光滤光器的漏光所导致的检测灵敏度低下的问题,并可高灵敏度地对测定材料进行检测。

    荧光测定装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100533125C

    公开(公告)日:2009-08-26

    申请号:CN200610008610.1

    申请日:2006-02-17

    Abstract: 本发明提供一种荧光测定装置,在保持待测试样的基板41上,形成反射从该基板41的上方照射的激励光e1并可透过由上述试样所发出的荧光f1的电介质多层膜42,并由该电介质多层膜42反射激励光e2,由受光部分44检测出透过的荧光f1。根据本发明,可以消除由基板的自身荧光和来自激励光的受光滤光器的漏光所导致的检测灵敏度低下的问题,并可高灵敏度地对测定材料进行检测。

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