公开(公告)号：CN1121992C

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN99801910.0

申请日：1999-08-23

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 藤原健児 ,  矢藤久典 ,  后藤正夫 ,  笹田寿一 ,  山内政典 ,  蓼沼克嘉 ,  新井修 ,  田口拓志

IPC: C03C23/00 ,  C03C15/00

CPC classification number: C01B7/195 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0075

Abstract: 在从洗净槽(11)排出的洗净液(1)中添加含有氟化物的处理液(2)，和洗净液中的氟硅酸反应，析出含有氟硅酸盐的沉淀物(4)，然后去除该沉淀物。在再生装置(10)中再生的洗净液再送回洗净槽(11)，作为阴极射线管用面板(20)的洗净液使用。