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公开(公告)号:CN101542607A
公开(公告)日:2009-09-23
申请号:CN200880000647.7
申请日:2008-06-20
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据一个实施例,一种制造磁记录介质的方法包括以下步骤:在基底上形成凸出的磁图形;在所述磁图形之间的凹陷中以及在所述磁图形上沉积非磁性材料;以及使用含氧蚀刻气体回蚀刻所述非磁性材料,同时改良所述非磁性材料的表面。
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公开(公告)号:CN100458923C
公开(公告)日:2009-02-04
申请号:CN200610094256.9
申请日:2006-06-28
CPC classification number: G11B5/7315
Abstract: 一种用于磁记录介质的基底(11),包括与记录磁道相应的圆周形凸起和与记录磁道之间的沟槽相应的圆周形凹陷,其中所述基底(11)满足以下条件中的至少一项:(a)所述凹陷表面的表面能小于所述凸起表面的表面能;(b)利用可热分解或可热变形的物质改性所述凹陷的表面;(c)所述凹陷表面的表面粗糙度小于所述凸起表面的表面粗糙度;(d)结晶取向在所述凹陷表面上比在所述凸起表面上更加受干扰;(e)利用引起与磁性材料反应或扩散到所述磁性材料中的物质来改性所述凹陷的表面;以及(f)利用可溶于溶剂中的物质或利用可变形物质改性所述凹陷的表面。
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公开(公告)号:CN101097730A
公开(公告)日:2008-01-02
申请号:CN200710126952.8
申请日:2007-07-02
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/59688 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/855
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质,其包含:数据区域(1),其中,在跨轨方向上形成多个记录轨道,每个记录轨道包含以间距p在顺轨方向上排列的磁点(5);伺服区域(2),其包含前序部分(3),在前序部分(3)中,以相等的间隔在顺轨方向上形成磁点(5)的多条线,磁点(5)以间距p在跨轨方向上排列。
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公开(公告)号:CN1326144C
公开(公告)日:2007-07-11
申请号:CN03148474.3
申请日:2003-06-27
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B20/0021 , G11B20/00086 , G11B20/00108 , G11B20/00173 , G11B20/00326 , G11B23/288 , G11B2020/10898
Abstract: 本发明涉及记录介质、记录介质管理方法和记录介质管理系统。本发明的记录介质的特征在于具有:在上述记录区域中的可至少进行一次数据重写的RAM区域、不能进行数据重写的ROM区域和记录并存储数据的数据存储区域,根据第一写入条件将可至少进行一次数据重写的RAM位记录在上述RAM区域上,用上述第一写入条件将不能进行数据重写的ROM位记录在上述ROM区域上,形成由上述RAM位和上述ROM位排列成的验证区域。
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公开(公告)号:CN1808575A
公开(公告)日:2006-07-26
申请号:CN200510129160.7
申请日:2005-09-26
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/855 , B29C59/022 , B29C2059/023 , B29L2017/005 , Y10S425/81 , Y10S977/887 , Y10T156/1039
Abstract: 本发明提供一种以高生产率和高合格率制造具有微细凹凸图形的高密度记录介质、半导体及磁记录介质的方法。一种板状结构体的制造方法,包括:将具有形成凹凸图形的凹凸形成区域的原盘(5)和被复制基板(1)插入由空心圆筒状的上模具(9)和下模具(10)构成的模具的一对压制面之间,对所述上模具(9)和下模具(10)的中心部进行加压,并对所述原盘(5)和被复制基板(1)施加压力,由此将所述原盘(5)的凹凸图形复制到所述被复制基板(1)的表面的工序;切断施加到所述上模具(9)及下模具(10)的内周部的压缩负重,使该压缩负重向所述上模具(9)及下模具(10)的外周侧面分散。
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公开(公告)号:CN101471087A
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:CN200810174923.3
申请日:2008-10-24
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/59688 , G11B5/59655 , G11B5/59666
Abstract: 本发明涉及一种具有分立磁道介质类型的盘的盘驱动器。根据一个实施例,盘驱动器(1)具有DTM类型盘(10)。该DTM类型盘(10)具有位于一个记录表面上的伺服区。在该伺服区中,记录了伺服图案。该伺服图案是由突起-凹陷图案和N极和S极磁性图案构成的。将该N极和S极磁性图案记录在包含柱面编码的地址数据区域中。
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公开(公告)号:CN100446090C
公开(公告)日:2008-12-24
申请号:CN200610094230.4
申请日:2006-06-27
IPC: G11B5/84 , H01L21/3065
CPC classification number: C23F4/00 , B82Y10/00 , G11B5/012 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/855 , H01J2237/30466 , H01J2237/3174
Abstract: 一种用于制造磁记录介质的方法,该方法包括:在基底(15,35,51,61)上的记录磁道部分以及伺服部分上形成具有铁磁性材料(54,64)的凸起和凹陷的图形;在该铁磁性材料(54,64)上形成平化膜(56,66),该平化膜的顶表面高于铁磁性材料(54,64)的凸起的顶表面;以及在该平化膜(56,66)上进行离子束蚀刻直到铁磁性材料(54,64)的凸起的顶表面,并且通过离子计数器(13,33)基于入射颗粒的总数的变化来确定平化蚀刻的终点,该离子计数器被安装成根据平化膜(56,66)的材料相对于基底(15,35,51,61)的垂直方向成角度θ。
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公开(公告)号:CN100412953C
公开(公告)日:2008-08-20
申请号:CN200610094232.3
申请日:2006-06-27
Abstract: 一种磁记录装置,包括:磁记录介质(11),所述磁记录介质包括基底(21),所述基底具有与伺服区域和数据区域对应的凸起和凹陷,还包括沉积在基底上的磁性层(23);以及,读/写磁头,其包括一对磁屏蔽罩(31)和巨磁阻元件(33),其中介质(11)上的磁道间距在50nm至300nm之间,磁记录介质(11)的线速度为11m/s,以及当将磁屏蔽罩(31)至介质(11)的凸起上的磁性层(23)间的距离定义为“m”,而将介质(11)伺服区域的凸起和凹陷上的磁性层(23)间的距离定义为“d”时,则满足下列条件即d/m在0.2至3之间。
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