用于磁记录介质的基底、磁记录介质和磁记录装置

    公开(公告)号:CN100458923C

    公开(公告)日:2009-02-04

    申请号:CN200610094256.9

    申请日:2006-06-28

    CPC classification number: G11B5/7315

    Abstract: 一种用于磁记录介质的基底(11),包括与记录磁道相应的圆周形凸起和与记录磁道之间的沟槽相应的圆周形凹陷,其中所述基底(11)满足以下条件中的至少一项:(a)所述凹陷表面的表面能小于所述凸起表面的表面能;(b)利用可热分解或可热变形的物质改性所述凹陷的表面;(c)所述凹陷表面的表面粗糙度小于所述凸起表面的表面粗糙度;(d)结晶取向在所述凹陷表面上比在所述凸起表面上更加受干扰;(e)利用引起与磁性材料反应或扩散到所述磁性材料中的物质来改性所述凹陷的表面;以及(f)利用可溶于溶剂中的物质或利用可变形物质改性所述凹陷的表面。

    板状结构体的制造方法及制造装置

    公开(公告)号:CN1808575A

    公开(公告)日:2006-07-26

    申请号:CN200510129160.7

    申请日:2005-09-26

    Abstract: 本发明提供一种以高生产率和高合格率制造具有微细凹凸图形的高密度记录介质、半导体及磁记录介质的方法。一种板状结构体的制造方法,包括:将具有形成凹凸图形的凹凸形成区域的原盘(5)和被复制基板(1)插入由空心圆筒状的上模具(9)和下模具(10)构成的模具的一对压制面之间,对所述上模具(9)和下模具(10)的中心部进行加压,并对所述原盘(5)和被复制基板(1)施加压力,由此将所述原盘(5)的凹凸图形复制到所述被复制基板(1)的表面的工序;切断施加到所述上模具(9)及下模具(10)的内周部的压缩负重,使该压缩负重向所述上模具(9)及下模具(10)的外周侧面分散。

    磁记录装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100412953C

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200610094232.3

    申请日:2006-06-27

    CPC classification number: G11B5/82 B82Y10/00 G11B5/743

    Abstract: 一种磁记录装置,包括:磁记录介质(11),所述磁记录介质包括基底(21),所述基底具有与伺服区域和数据区域对应的凸起和凹陷,还包括沉积在基底上的磁性层(23);以及,读/写磁头,其包括一对磁屏蔽罩(31)和巨磁阻元件(33),其中介质(11)上的磁道间距在50nm至300nm之间,磁记录介质(11)的线速度为11m/s,以及当将磁屏蔽罩(31)至介质(11)的凸起上的磁性层(23)间的距离定义为“m”,而将介质(11)伺服区域的凸起和凹陷上的磁性层(23)间的距离定义为“d”时,则满足下列条件即d/m在0.2至3之间。

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