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公开(公告)号：CN1300640C
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN03156086.5
申请日：2003-08-29
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/30 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , Y10S438/906
Abstract: 本发明的目的是提供一种使图案的加工尺寸变成为均一而与图案的疏密无关的衬底处理方法及其装置。在从药液吐出/吸引部的第1药液吐出口对被处理衬底连续地吐出第1药液，同时，一边从被配置在第1药液吐出/吸引部上的并被配置为将第1药液吐出口夹在中间的2个吸引口连续地吸引上述衬底上的溶液，一边使上述第1药液吐出/吸引部与上述被处理衬底相对地进行水平直线移动来对上述被处理衬底进行药液处理的衬底处理方法中，使在与上述被处理衬底接触的单位体积区域内在单位时间内通过的第1药液的量在药液处理过程中变化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1366333A
公开(公告)日：2002-08-28
申请号：CN01133875.X
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/30 , H01L21/027 , G03F7/30
CPC classification number: G03D5/003
Abstract: 提供一种衬底处理装置及衬底处理方法,可以消除被处理表面上的药液浓度差,可以实现高精度的药液处理。在药液喷出/吸引单元(扫描喷嘴)21中设置有用来向被处理衬底喷出药液的药液喷出开口22和用来吸引被处理衬底上的药液的药液吸引开口23,由于从上述药液喷出开口22连续喷出的药液被上述药液吸引开口23连续吸引,在上述扫描喷嘴21和被处理表面之间,以及在上述药液喷出开口22和上述药液吸引开口23之间的区域中不断有新鲜药液供给被处理表面。
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公开(公告)号：CN1952791A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610163352.4
申请日：2003-08-29
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G03F7/30 , Y10S438/906
Abstract: 本发明的目的是使图案的加工尺寸变成为均一而与图案的疏密无关。具体解决方案的特征在于包括：预先求出显影液中的抗蚀剂的溶解浓度和由上述显影液导致的抗蚀剂的溶解速度之间的关系的工序；根据上述关系预先估计上述抗蚀剂的溶解速度变成为所希望的速度或以上的抗蚀剂的溶解浓度的工序；在上述显影液中的抗蚀剂的溶解浓度在该估计溶解浓度或以下的状态下进行显影处理的工序。
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公开(公告)号：CN1489000A
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：CN03156086.5
申请日：2003-08-29
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/26 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , Y10S438/906
Abstract: 本发明的目的是使图案的加工尺寸变成为均一而与图案的疏密无关。具体解决方案的特征在于包括：预先求出显影液中的抗蚀剂的溶解浓度和由上述显影液导致的抗蚀剂的溶解速度之间的关系的工序；根据上述关系预先估计上述抗蚀剂的溶解速度变成为所希望的速度或以上的抗蚀剂的溶解浓度的工序；在上述显影液中的抗蚀剂的溶解浓度在该估计溶解浓度或以下的状态下进行显影处理的工序。
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公开(公告)号：CN100552549C
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200610163352.4
申请日：2003-08-29
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G03F7/30 , Y10S438/906
Abstract: 本发明的目的是使图案的加工尺寸变成为均一而与图案的疏密无关。具体解决方案的特征在于包括：预先求出显影液中的抗蚀剂的溶解浓度和由上述显影液导致的抗蚀剂的溶解速度之间的关系的工序；根据上述关系预先估计上述抗蚀剂的溶解速度变成为所希望的速度或以上的抗蚀剂的溶解浓度的工序；在上述显影液中的抗蚀剂的溶解浓度在该估计溶解浓度或以下的状态下进行显影处理的工序。
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公开(公告)号：CN1199242C
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN01133875.X
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/30 , H01L21/027 , G03F7/30
CPC classification number: G03D5/003
Abstract: 提供一种衬底处理装置和衬底处理方法，可以消除被处理表面上的药液浓度差，可以实现高精度的药液处理。在药液喷出/吸引单元(扫描喷嘴)(21)中设置有用来向被处理衬底喷出药液的药液喷出开口(22)和用来吸引被处理衬底上的药液的药液吸引开口(23)，由于从上述药液喷出开口(22)连续喷出的药液被上述药液吸引开口(23)连续吸引，在上述扫描喷嘴(21)和被处理表面之间，以及在上述药液喷出开口(22)和上述药液吸引开口(23)之间的区域中不断有新鲜药液供给被处理表面。
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