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公开(公告)号：CN117836872A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280056820.5
申请日：2022-07-05
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够在低温下制作、实现小的方块电阻、高透射且轻量、挠性的太阳能电池或大面积的照明等的透明电极及其制造方法和使用了上述透明电极的电子器件。实施方式的透明电极具有银纳米线的网络。该透明电极具有曲线的最小曲率半径r为2μm以下、弯曲角度Θ为90°以上的银纳米线，以及包含沸点为160℃以下、具有炔基和羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN114302773B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202080058863.8
申请日：2020-08-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下，第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。
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公开(公告)号：CN112074965A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201880090582.3
申请日：2018-03-16
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供电阻小、光透射性高并且能够用简便的方法制作的透明电极的制造方法以及制造装置。提供一种制造方法、利用该制造方法的透明电极的制造装置，所述制造方法的特征在于，具有：在疏水性的聚合物膜上涂敷金属纳米线分散液的工序；将所述聚合物上的金属纳米线和导电性基板直接压接的工序；以及使所述金属纳米线层剥离，而转印到所述导电性基板的工序。
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公开(公告)号：CN111183357A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880056118.2
申请日：2018-09-13
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: G01N27/416 , H01L51/50 , H05B33/28
Abstract: [课题]提供以简便方法评价含石墨烯膜的阴离子透过性的方法和使用控制离子透过性的含石墨烯膜的光电转换元件。[解决手段]该方法包括：(i)准备具备含阴离子的水溶液、含金属银的工作电极、对电极和参比电极的测量装置，(ii)各电极与水溶液接触时边周期性改变工作电极相对对电极的电极电位边扫描，测量金属银与阴离子的反应电流I0，(iii)代替工作电极，测量与工作电极电连接的含石墨烯膜与水溶液接触时的反应电流I1,(iv)比较I0与I1，评价含石墨烯膜的阴离子透过性。提供具备含石墨烯膜的光电转换元件，当根据上述方法测量反应电流时反应电流I1的曲线在正电位侧具有峰，正电位侧累积电荷量Q1为不具含石墨烯膜的正侧累积电荷量Q0的20％以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115315318B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202180016238.1
申请日：2021-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
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公开(公告)号：CN118829489A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202280092645.5
申请日：2022-11-14
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置、弯月面头以及涂敷方法。根据实施方式，提供能够得到大面积且均匀的涂敷膜的涂敷装置、弯月面头以及涂敷方法。实施方式的涂敷装置通过弯月面法形成涂膜，具备输送基材的部件、涂敷棒、向涂敷棒的表面供给涂敷液的狭缝式模头、以及向狭缝式模头供给涂敷液的部件，各部件配置成，使得从狭缝式模头供给的涂敷液经由涂敷棒的表面供给到涂敷棒与基材之间而形成弯月面。
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公开(公告)号：CN112074965B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN201880090582.3
申请日：2018-03-16
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供电阻小、光透射性高并且能够用简便的方法制作的透明电极的制造方法以及制造装置。提供一种制造方法、利用该制造方法的透明电极的制造装置，所述制造方法的特征在于，具有：在疏水性的聚合物膜上涂敷金属纳米线分散液的工序；将所述聚合物上的金属纳米线和导电性基板直接压接的工序；以及使所述金属纳米线层剥离，而转印到所述导电性基板的工序。
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公开(公告)号：CN117062675A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280016250.7
申请日：2022-02-21
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: B05C1/02
Abstract: 提供能形成均匀的涂敷膜的涂敷装置以及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包括涂敷杆、多个喷嘴、多个保持部以及检测部。上述涂敷杆能与被涂敷构件相向。上述多个喷嘴能朝上述涂敷杆供给液体。上述多个保持部中的一个保持部保持上述多个喷嘴中的一个喷嘴。上述多个保持部中的一个保持部能控制以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴中的上述一个喷嘴的位置。上述检测部能检测与以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴各自的位置相对应的量。
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