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公开(公告)号：CN110267924B
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN201780085860.1
申请日：2017-12-28
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 一种结晶化玻璃，其特征在于：以结晶化玻璃作为母材，在表面具有压缩应力层；在厚度10mm的情况下包含反射损失的光线透射率为80％时的波长是400nm至669nm，维氏硬度(Hv)为835至1300。结晶化玻璃，其压缩应力层的厚度是20μm以上。结晶化玻璃，其结晶化玻璃母材，以氧化物换算的重量％计，含有40.0％至70.0％的SiO2成分、11.0％至25.0％的Al2O3成分、5.0％至19.0％的Na2O成分、0％至9.0％的K2O成分、1.0％至18.0％的MgO成分、0％至3.0％的CaO成分以及0.5％至12.0％的TiO2成分，并且含有的SiO2成分、Al2O3成分、Na2O成分、K2O成分、MgO成分、TiO2成分的总量为90％以上。
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公开(公告)号：CN103501963A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280011643.5
申请日：2012-04-11
Applicant: 株式会社小原
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种制造方法，所述制造方法利用实质上不使用氧化铈作为研磨液中的游离磨料而能够得到与氧化铈同等的研磨效果的研磨工序，以低成本将信息记录介质用基板等各种基板或光学部件等中使用的玻璃、结晶化玻璃、结晶等脆性无机材料、或由上述材料形成的下一代的硬盘用基板所要求的、机械强度高的材料加工成高精度的表面性状。本发明提供一种研磨品的制造方法，所述制造方法包括使用研磨液及研磨垫将无机材料进行研磨的研磨工序，其特征在于，上述研磨液至少含有由包含Zr及Si的化合物形成的研磨磨料，上述研磨液中的磨料浓度在40wt％以下的范围内。
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公开(公告)号：CN112512987B
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN201880096074.6
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 一种结晶化玻璃基板，其表面具有压缩应力层，所述压缩应力层的最外表面的压缩应力CS(MPa)是400～1400MPa，当将压缩应力的值为CS的50％时的深度记做DOL50％(μm)、将压缩应力的值为0MPa时的深度记做DOLzero(μm)时，DOL50％/DOLzero是0.30以上。
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公开(公告)号：CN112512986A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201880096073.1
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 一种结晶化玻璃基板，其表面具有压缩应力层，当将所述压缩应力层的最外表面的压缩应力记做CS(MPa)、将所述压缩应力层的压缩应力是0MPa时的应力深度记做DOLzero(μm)、将通过曲线分析所求得的中心应力记做CT(MPa)、将所述基板的厚度记做T(μm)时，所述结晶化玻璃基板的CS是400～1400MPa，CT×(T‑2×DOLzero)/CS×DOLzero是0.60以上。
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公开(公告)号：CN110799465A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201880042657.0
申请日：2018-04-10
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 本发明可获得一种坚硬且难以破裂，即使被破坏也难以粉碎的结晶化玻璃基板。所述晶化玻璃基板，以结晶化玻璃作为母材，并且在表面具有压缩应力层，其中，所述结晶化玻璃，以氧化物换算的重量％计，含有：40.0％～70.0％的SiO2成分、11.0％～25.0％的Al2O3成分、5.0％～19.0％的Na2O成分、0％～9.0％的K2O成分、1.0％～18.0％的从MgO成分及ZnO成分中选择的1种以上的成分、0％～3.0％的CaO成分及0.5％～12.0％的TiO2成分；并且从SiO2成分、Al2O3成分、Na2O成分、MgO成分及ZnO成分中选择的1种以上的成分，与TiO2成分的合计含量90％以上；所述压缩应力层的应力深度为40μm以上；所述压缩应力层的表面压缩应力为750MPa以上；通过曲线分析求得的所述压缩应力层的中心压缩应力，为65MPa以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112512985B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN201880095951.8
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 一种结晶化玻璃基板，其表面具有压缩应力层，所述压缩应力层的压缩应力为0MPa时的应力深度DOLzero是45～200μm、所述压缩应力层的最外表面的压缩应力CS是400～1400MPa，通过曲线分析所求得的中心应力CT是55～300MPa。
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公开(公告)号：CN112512984B
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN201880095948.6
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 一种结晶化玻璃基板，其表面具有压缩应力层，所述压缩应力层的压缩应力为0MPa时的应力深度DOLzero是45～200μm、所述压缩应力层的最外表面的压缩应力CS是400～1400MPa，所述最外表面的压缩应力CS与所述应力深度DOLzero(μm)之积CS×DOLzero是4.8×104以上。
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公开(公告)号：CN110799465B
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN201880042657.0
申请日：2018-04-10
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 本发明可获得一种坚硬且难以破裂，即使被破坏也难以粉碎的结晶化玻璃基板。所述晶化玻璃基板，以结晶化玻璃作为母材，并且在表面具有压缩应力层，其中，所述结晶化玻璃，以氧化物换算的重量％计，含有：40.0％～70.0％的SiO2成分、11.0％～25.0％的Al2O3成分、5.0％～19.0％的Na2O成分、0％～9.0％的K2O成分、1.0％～18.0％的从MgO成分及ZnO成分中选择的1种以上的成分、0％～3.0％的CaO成分及0.5％～12.0％的TiO2成分；并且从SiO2成分、Al2O3成分、Na2O成分、MgO成分及ZnO成分中选择的1种以上的成分，与TiO2成分的合计含量90％以上；所述压缩应力层的应力深度为40μm以上；所述压缩应力层的表面压缩应力为750MPa以上；通过曲线分析求得的所述压缩应力层的中心拉伸应力，为65MPa以下。
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公开(公告)号：CN112512984A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201880095948.6
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 一种结晶化玻璃基板，其表面具有压缩应力层，所述压缩应力层的压缩应力为0MPa时的应力深度DOLzero是45～200μm、所述压缩应力层的最外表面的压缩应力CS是400～1400MPa，所述最外表面的压缩应力CS与所述应力深度DOLzero(μm)之积CS×DOLzero是4.8×104以上。
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公开(公告)号：CN110267924A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201780085860.1
申请日：2017-12-28
Applicant: 株式会社小原
Abstract: 一种结晶化玻璃，其特征在于：以结晶化玻璃作为母材，在表面具有压缩应力层；在厚度10mm的情况下包含反射损失的光线透射率为80％时的波长是400nm至669nm，维氏硬度(Hv)为835至1300。结晶化玻璃，其压缩应力层的厚度是20μm以上。结晶化玻璃，其结晶化玻璃母材，以氧化物换算的重量％计，含有40.0％至70.0％的SiO2成分、11.0％至25.0％的Al2O3成分、5.0％至19.0％的Na2O成分、0％至9.0％的K2O成分、1.0％至18.0％的MgO成分、0％至3.0％的CaO成分以及0.5％至12.0％的TiO2成分，并且含有的SiO2成分、Al2O3成分、Na2O成分、K2O成分、MgO成分、TiO2成分的总量为90％以上。
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