公开(公告)号：CN100440432C

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200480024324.3

申请日：2004-08-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 白井健 ,  国分崇生 ,  石泽均 ,  村上敦信

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  G02B13/00

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

Abstract: 一种在曝光装置中被使用的光学元件，所述曝光装置用曝光束照明掩模并经投影光学系统将所述掩模的图形转印到基板上，且使规定的液体介入到所述基板的表面与所述投影光学系统之间，其中，在所述投影光学系统的所述基板一侧的透过光学元件的表面上具备第1防止溶解构件。

公开(公告)号：CN1890779A

公开(公告)日：2007-01-03

申请号：CN200480035901.9

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂 ,  星加隆一 ,  石泽均

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN1842892A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200480024324.3

申请日：2004-08-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 白井健 ,  国分崇生 ,  石泽均 ,  村上敦信

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  G02B13/00

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

Abstract: 一种在曝光装置中被使用的光学元件，所述曝光装置用曝光束照明掩模并经投影光学系统将所述掩模的图形转印到基板上，且使规定的液体介入到所述基板的表面与所述投影光学系统之间，其中，在所述投影光学系统的所述基板一侧的透过光学元件的表面上具备第1防止溶解构件。

公开(公告)号：CN102163005A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201110089902.3

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 星加隆一 ,  石泽均

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种投影曝光装置、器件制造方法以及光学部件。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN1890779B

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200480035901.9

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂 ,  星加隆一 ,  石泽均

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN102163005B

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：CN201110089902.3

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 星加隆一 ,  石泽均

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种投影曝光装置、器件制造方法以及光学部件。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。