公开(公告)号：CN104678715A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201510058647.4

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  大和壮一 ,  西井康文

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/708 ,  G03F7/7095

Abstract: 本发明提供一种曝光方法以及器件制造方法。曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。

公开(公告)号：CN1894773A

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：CN200480037202.8

申请日：2004-12-15

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 西井康文 ,  白石健一 ,  河野博高

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 一种台装置PST被提供以：支撑器PH，其具有支撑衬底P的衬底支撑表面33A；台52，其支撑和移动支撑器PH；以及回收装置60，其被布置在支撑器PH附近，并且具有亲液部分3、5，其中每一个的至少一部分是亲液性的，其利用亲液部分3、5来回收液体1。结果，防止了液体渗透到衬底和支撑器之间的空间中，即使在通过用液体填充投射光学系统和衬底之间的空间来执行曝光处理时也是如此。

公开(公告)号：CN101354539B

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200810160953.9

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  大和壮一 ,  西井康文

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。

公开(公告)号：CN100487860C

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200480037202.8

申请日：2004-12-15

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 西井康文 ,  白石健一 ,  河野博高

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 一种台装置(PST)被提供以：支撑器(PH)，其具有支撑衬底(P)的衬底支撑表面(33A)；台(52)，其支撑和移动支撑器(PH)；以及回收装置(60)，其被布置在支撑器(PH)附近，并且具有亲液部分(3、5)，其中每一个的至少一部分是亲液性的，其利用亲液部分(3、5)来回收液体(1)。结果，防止了液体渗透到衬底和支撑器之间的空间中，即使在通过用液体填充投射光学系统和衬底之间的空间来执行曝光处理时也是如此。

公开(公告)号：CN1754250A

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN200480005148.9

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  大和壮一 ,  西井康文

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。