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公开(公告)号：CN107075058B
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201580040815.5
申请日：2015-08-13
Applicant: 株式会社巴川制纸所
IPC: C08F299/06 , C08J7/04
CPC classification number: C08F299/06 , C08J7/04
Abstract: 本发明提供一种在薄层状态下透湿度低且具有自支撑性的保护膜。本发明的保护膜是由重复单元形成的保护膜，所述重复单元具有源自于作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构，并且，所述重复单元具有支链状烷基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104977633A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201510162414.9
申请日：2015-04-08
Applicant: 株式会社巴川制纸所
Abstract: 本发明提供在薄层的状态下透湿率低且具有独立性的保护膜。本发明的保护膜通过具有来源于2官能性氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构的重复单元形成，上述重复单元具有多种饱和环状脂族基，由于为薄层且低透湿率，所以，对于贴合有该保护膜的偏光薄膜，即使在高温高湿环境下偏光薄膜也难以吸湿，偏光薄膜的伸缩得到抑制。
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公开(公告)号：CN104977633B
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201510162414.9
申请日：2015-04-08
Applicant: 株式会社巴川制纸所
Abstract: 本发明提供在薄层的状态下透湿率低且具有独立性的保护膜。本发明的保护膜通过具有来源于2官能性氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构的重复单元形成，上述重复单元具有多种饱和环状脂族基，由于为薄层且低透湿率，所以，对于贴合有该保护膜的偏光薄膜，即使在高温高湿环境下偏光薄膜也难以吸湿，偏光薄膜的伸缩得到抑制。
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公开(公告)号：CN102012532B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201010269619.4
申请日：2010-08-31
Applicant: 株式会社巴川制纸所
IPC: G02B1/16 , G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B17/10 , B32B27/08
Abstract: 本发明提供一种以一层构造就具有优异的抗静电性能且耐光性、耐皂化性和耐划伤性优异的光学层叠体、偏振片以及使用其的显示装置。本发明的光学层叠体的特征在于，其为在透光性基体上直接或者隔着其他层至少设置有光学功能层的光学层叠体，所述光学功能层至少含有导电材料，该光学层叠体表面的碳弧式耐光性试验后的表面电阻率为1.0×1012Ω/□以下，并且，碳弧式耐光性试验前后的表面电阻率之比即R2/R1为104以下，其中，R1为碳弧式耐光性试验前的表面电阻率，R2为碳弧式耐光性试验后的表面电阻率。
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公开(公告)号：CN107075058A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580040815.5
申请日：2015-08-13
Applicant: 株式会社巴川制纸所
IPC: C08F299/06 , C08J7/04
CPC classification number: C08F299/06 , C08J7/04
Abstract: 本发明提供一种在薄层状态下透湿度低且具有自支撑性的保护膜。本发明的保护膜是由重复单元形成的保护膜，所述重复单元具有源自于作为单体的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的结构，并且，所述重复单元具有支链状烷基。
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公开(公告)号：CN102012532A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN201010269619.4
申请日：2010-08-31
Applicant: 株式会社巴川制纸所
IPC: G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B17/10 , B32B27/08
Abstract: 本发明提供一种以一层构造就具有优异的抗静电性能且耐光性、耐皂化性和耐划伤性优异的光学层叠体、偏振片以及使用其的显示装置。本发明的光学层叠体的特征在于，其为在透光性基体上直接或者隔着其他层至少设置有光学功能层的光学层叠体，所述光学功能层至少含有导电材料，该光学层叠体表面的碳弧式耐光性试验后的表面电阻率为1.0×1012Ω/□以下，并且，碳弧式耐光性试验前后的表面电阻率之比即R2/R1为104以下，其中，R1为碳弧式耐光性试验前的表面电阻率，R2为碳弧式耐光性试验后的表面电阻率。
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