公开(公告)号：CN106252199A

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：CN201610404966.0

申请日：2016-06-08

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 岩畑翔太 ,  尾辻正幸

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/02057 ,  B81C1/00928 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67023

Abstract: 本发明提供一种能够抑制或防止图案的倒塌的基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：基板保持步骤，通过基板保持单元将在上表面形成有图案的基板保持为水平姿势，液膜形成步骤，形成覆盖整个所述上表面的有机溶剂的液膜，以将在所述上表面存在的处理液置换为有机溶剂的液体，薄膜保持步骤，一边将整个所述上表面的周围保持在有机溶剂蒸气的环境一边使所述基板以第一高旋转速度旋转来使所述有机溶剂的液膜变薄，由此，在所述上表面保持有机溶剂的薄膜，薄膜除去步骤，在所述薄膜保持步骤之后，从所述上表面除去所述薄膜；所述薄膜除去步骤包括使所述基板以第二高旋转速度旋转的高速旋转步骤。

公开(公告)号：CN106252199B

公开(公告)日：2019-04-23

申请号：CN201610404966.0

申请日：2016-06-08

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 岩畑翔太 ,  尾辻正幸

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够抑制或防止图案的倒塌的基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：基板保持步骤，通过基板保持单元将在上表面形成有图案的基板保持为水平姿势，液膜形成步骤，形成覆盖整个所述上表面的有机溶剂的液膜，以将在所述上表面存在的处理液置换为有机溶剂的液体，薄膜保持步骤，一边将整个所述上表面的周围保持在有机溶剂蒸气的环境一边使所述基板以第一高旋转速度旋转来使所述有机溶剂的液膜变薄，由此，在所述上表面保持有机溶剂的薄膜，薄膜除去步骤，在所述薄膜保持步骤之后，从所述上表面除去所述薄膜；所述薄膜除去步骤包括使所述基板以第二高旋转速度旋转的高速旋转步骤。