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发明公开
基材处理装置及方法、涂膜形成系统、涂膜形成方法无效

公开(公告)号：CN105977445A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201610134262.6

申请日：2016-03-09

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 神田宽行

IPC: H01M4/04 , H01M4/139

CPC classification number: H01M4/0407 , H01M4/139

Abstract: 本发明提供一种能够抑制对基材的处理的均匀性下降且修正基材的位置偏移的基材处理装置、涂膜形成系统、基材处理方法以及涂膜形成方法。干燥装置(30A)对以卷对卷方式搬送的基材(5)进行干燥处理。干燥装置(30A)具有对基材(5)的一个主面进行干燥处理的多个表面干燥部(35)。在配置有多个表面干燥部(35)的干燥处理区间(12A)排列有多个倾动辊(331)。控制部(7)基于由位置检测器(51A)检测的基材(5)的在宽度方向上的位置，来控制倾动机构(41)，由此使各倾动辊(331)倾动来修正基材(5)的位置偏移。

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