公开(公告)号：CN105472857B

公开(公告)日：2018-04-10

申请号：CN201510632845.7

申请日：2015-09-29

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 羽田浩二 ,  山本悟史

IPC: H05H1/46

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，能够提高等离子体离子密度的均匀性。等离子体处理装置具有：腔室，对象物保持部，在腔室内保持成为处理对象的对象物，匝数小于一匝的至少一个电感耦合型天线，高频电源，向至少一个电感耦合型天线供给高频电力，至少一个天线保持部，以使至少一个电感耦合型天线从腔室的一壁部向腔室内突出的方式，相对于一壁部分别保持至少一个电感耦合型天线；至少一个天线保持部分别以能够在与该电感耦合型天线的突出方向交叉的面内改变使至少一个电感耦合型天线中的对应的电感耦合型天线的两端部连接的线段的朝向的方式，在对应的电感耦合型天线的两端部保持对应的电感耦合型天线。

公开(公告)号：CN105472857A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510632845.7

申请日：2015-09-29

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 羽田浩二 ,  山本悟史

IPC: H05H1/46

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，能够提高等离子体离子密度的均匀性。等离子体处理装置具有：腔室，对象物保持部，在腔室内保持成为处理对象的对象物，匝数小于一匝的至少一个电感耦合型天线，高频电源，向至少一个电感耦合型天线供给高频电力，至少一个天线保持部，以使至少一个电感耦合型天线从腔室的一壁部向腔室内突出的方式，相对于一壁部分别保持至少一个电感耦合型天线；至少一个天线保持部分别以能够在与该电感耦合型天线的突出方向交叉的面内改变使至少一个电感耦合型天线中的对应的电感耦合型天线的两端部连接的线段的朝向的方式，在对应的电感耦合型天线的两端部保持对应的电感耦合型天线。