附带信息功能层的形成方法、电子元件的制造方法

    公开(公告)号:CN118016557A

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202311394643.4

    申请日:2023-10-25

    Abstract: 本发明涉及附带信息功能层的形成方法、电子元件的制造方法以及附带功能层电子元件,其目的在于提供有助于电子元件或电子模块等进一步小型化及薄型化的附带信息功能层的形成方法。本发明的一种实施方式所涉及的附带信息功能层的形成方法包括在被施工对象物的表面上形成功能层的同时对所述功能层赋予信息的工序,所述功能层包括具有所述信息的信息区域和除此以外的非信息区域,所述信息区域和所述非信息区域之间存在色差。

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