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公开(公告)号：CN116457280A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202180077152.X
申请日：2021-09-24
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 赤津和宏 , 平山里绘 , 藤田和弘 , 坂井昭一朗
IPC: B65B61/02
Abstract: 一种用于基材的图案形成装置，包括保持单元和图案形成单元。保持单元被构造为保持其上形成有突起形状部分和凹陷形状部分之一的基材。图案形成单元被构造为在基材上形成图案。图案形成在突起形状部分、凹陷形状部分、凹陷形状部分的外围、突起形状部分的外围、沿着突起形状部分的部分和沿着凹陷形状部分的部分中的至少一个上。
