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公开(公告)号：CN118451385A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202280084261.9
申请日：2022-12-20
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 位移量测定装置包括:光发射器，配置为向被测物发射相干光；光位置检测器，配置为检测被测物的干涉像的瞬时强度变化；以及干涉像形成单元，其沿着从所述被测物反射的反射光的光路设置在所述被测物与所述光位置检测器之间。所述干涉像形成单元用从所述被测物反射的反射光形成所述干涉像，并且，放大光学系统的点像扩散函数，以放大干涉像的斑点粒子的尺寸。
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