公开(公告)号：CN113733547A

公开(公告)日：2021-12-03

申请号：CN202110577204.1

申请日：2021-05-26

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 须原浩之 ,  青户淳

IPC: B29C64/112 ,  B29C64/268 ,  B29C64/264 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00

Abstract: 本发明涉及光照射方法、光吸收材料附着装置及其相关方法和装置。提供了用于利用具有可被光吸收材料吸收的波长的光束照射光吸收材料的光照射方法，包括：通过汽化区域中的高于或等于外部压力的压力向光吸收材料施加能够使光吸收材料飞行的能量，其中汽化区域以围绕光轴的方式存在于透明体和光吸收材料之间的界面处。还提供了飞行体产生方法，包括：用激光束照射基体材料的与之上设置有光吸收材料的表面相对的表面，以使光吸收材料在激光束的发射方向上飞行，其中在基体材料与光吸收材料之间的界面处沿激光束照射的区域的外周产生压力高于或等于外部压力的汽化区域。

公开(公告)号：CN113433203B

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202110264196.5

申请日：2021-03-11

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 铃木一己 ,  植松克之 ,  须原浩之

IPC: G01N27/626 ,  H01J49/04 ,  G01N1/28

Abstract: 本发明的名称为制备用于MALDI质谱的测量样品的方法、装置和基板。一种制备用于MALDI质谱的测量样品的方法，该方法包括：以将激光束被施加到与包括基质的表面相对的基板的表面上的方式，将激光束施加到包括用于制备用于MALDI质谱的测量样品的基质的基板上，基质被布置在基板的表面上，以使得基质从基板飞出以布置在MALDI质谱的分析物的预定位置处，其中基板包括激光能量吸收材料，并且其中激光束的激光能量的波长为400nm或更长。

公开(公告)号：CN114062479B

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202110804865.3

申请日：2021-07-16

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 铃木一己 ,  植松克之 ,  须原浩之

IPC: G01N27/64 ,  G01N1/28

Abstract: 本发明涉及质谱分析方法。本发明的课题在于，提供精度良好地能定量的质谱分析方法。本发明的质谱分析方法向配置在测定试样表面的质谱分析用基质点照射激光束，进行质谱分析，其包括照射所述激光束的激光束照射工序，在向所述质谱分析用基质点照射所述激光束时，在所述测定试样出现的激光点(A)全部收纳在所述质谱分析用基质点，或者(B)将所述质谱分析用基质点全部收纳。

公开(公告)号：CN113433203A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202110264196.5

申请日：2021-03-11

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 铃木一己 ,  植松克之 ,  须原浩之

IPC: G01N27/626 ,  H01J49/04 ,  G01N1/28

Abstract: 本发明的名称为制备用于MALDI质谱的测量样品的方法、装置和基板。一种制备用于MALDI质谱的测量样品的方法，该方法包括：以将激光束被施加到与包括基质的表面相对的基板的表面上的方式，将激光束施加到包括用于制备用于MALDI质谱的测量样品的基质的基板上，基质被布置在基板的表面上，以使得基质从基板飞出以布置在MALDI质谱的分析物的预定位置处，其中基板包括激光能量吸收材料，并且其中激光束的激光能量的波长为400nm或更长。

公开(公告)号：CN114062479A

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202110804865.3

申请日：2021-07-16

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 铃木一己 ,  植松克之 ,  须原浩之

IPC: G01N27/64 ,  G01N1/28

Abstract: 本发明涉及质谱分析方法。本发明的课题在于，提供精度良好地能定量的质谱分析方法。本发明的质谱分析方法向配置在测定试样表面的质谱分析用基质点照射激光束，进行质谱分析，其包括照射所述激光束的激光束照射工序，在向所述质谱分析用基质点照射所述激光束时，在所述测定试样出现的激光点(A)全部收纳在所述质谱分析用基质点，或者(B)将所述质谱分析用基质点全部收纳。

公开(公告)号：CN113474170A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202080015785.3

申请日：2020-03-09

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 藤田贵史 ,  须原浩之 ,  酒井浩司 ,  小桥川翔太 ,  竹内惇 ,  田村麻人 ,  前田一郎 ,  西尾卓卫

IPC: B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B29C64/141 ,  B29C64/241 ,  B29C64/268 ,  B29C64/295 ,  B29C64/321

Abstract: 一种被构造为对三维被建模对象进行建模的设备，包括载体、能量施加单元和飞行单元。载体被构造为承载建模材料。能量施加单元被构造为向被建模对象的表面施加能量。飞行单元被构造为将承载在载体上的建模材料朝向被建模对象的表面飞行，能量被施加到表面。

公开(公告)号：CN110174769A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201910121041.9

申请日：2019-02-18

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 须原浩之

IPC: G02B27/09 ,  G02B27/42

Abstract: 本发明涉及光照射装置、具备光照射装置的光加工装置、光照射方法以及光加工方法，其目的在于提供一种具有高质量且稳定的光束轮廓的光照射装置。本发明的光照射装置借助于反射镜和聚光透镜将光源输出的激光会聚到预定的聚焦位置，其特征在于，具备用于对所述激光的入射光束截面进行变倍的第一调光单元、以及用于转换所述激光的透射波前的相位分布的第二调光单元。