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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104451764A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410474928.3
申请日：2014-09-17
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C25B11/02
Abstract: 本发明涉及含有钛作为主成分，用于在水溶液或有机溶剂溶液中的电解的电极用金属板及电极。具备算数平均粗糙度Ra[μm]之比(Ra/Pc)为0.8以上的微细凹凸面。优选所述微细凹凸面的最大高度粗糙度Rz为50μm以下，算数平均粗糙度Ra为3.6μm以上且10μm以下，峰值数量Pc为0.5个/mm以上且5个/mm以下。另外，优选所述微细凹凸面具有通过轧制而形成的周期性的几何学图案的凹凸形状。
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公开(公告)号：CN110284124A
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201910193527.3
申请日：2019-03-14
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 国立大学法人名古屋大学
IPC: C23C16/517
Abstract: 提供一种等离子体CVD装置，其能够有效地在基材上形成高密度的皮膜，在具有导电性的基材上也能够形成皮膜。本发明的一个方式，是通过等离子体CVD在基材上形成皮膜的等离子体CVD装置，其具备：在内部使上述等离子体CVD反应发生的腔室；配设于上述腔室内并保持上述基材的保持机构；配设于上述腔室内并生成等离子体的天线；和对上述天线施加正偏压的电源，上述腔室和保持机构为接地电位。
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公开(公告)号：CN106637131A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201610712432.4
申请日：2016-08-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C16/40
CPC classification number: C23C16/401
Abstract: 本发明提供一种用硅原料的成膜装置，其在成为试样的基材上形成薄膜层，所述成膜装置具有具备试样保持机构及排气机构的反应室，所述反应室包括：原料供给部件，将硅原料与氧化性气体混合；能量供给部件，施加能量使所述硅原料氧化而形成薄膜层；以及未反应的原料回收部件，使未反应的原料在所述排气机构中分解或者吸附于分解物上；并且所述硅原料为含有硅、氧及碳的至少一种有机化合物，以在将所述硅原料1分子化学计量性地完全氧化的情况下所生成的全氧化物的合计分子数A与所述硅原料中所含的硅的原子数B满足(A‑B)/B≤6.75的关系的方式来调整供给量。
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公开(公告)号：CN102838242B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201210152478.7
申请日：2012-05-16
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C02F9/08 , C02F103/08
Abstract: 本发明提供一种海水的杀菌方法，其通过以电解后的紫外线光谱的峰值在特定范围产生的方式使海水电解，并在海水中产生臭氧等杀菌成分，从而能够有效地对海水进行杀菌。本发明使用一种海水的杀菌方法，其特征在于，通过以电解后的海水的紫外线吸收光谱的第1峰值在波长245～275nm之间产生、第2峰值在310～340nm之间产生的方式使海水电解，从而在海水中产生臭氧等杀菌成分。另外，优选以上述电解后的海水的紫外线光谱的第3峰值在波长280～305nm之间产生、第3峰值的吸光度比第1峰值和第2峰值的各吸光度更低的方式，使海水电解。
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公开(公告)号：CN102838242A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201210152478.7
申请日：2012-05-16
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C02F9/08 , C02F103/08
Abstract: 本发明提供一种海水的杀菌方法，其通过以电解后的紫外线光谱的峰值在特定范围产生的方式使海水电解，并在海水中产生臭氧等杀菌成分，从而能够有效地对海水进行杀菌。本发明使用一种海水的杀菌方法，其特征在于，通过以电解后的海水的紫外线吸收光谱的第1峰值在波长245～275nm之间产生、第2峰值在310～340nm之间产生的方式使海水电解，从而在海水中产生臭氧等杀菌成分。另外，优选以上述电解后的海水的紫外线光谱的第3峰值在波长280～305nm之间产生、第3峰值的吸光度比第1峰值和第2峰值的各吸光度更低的方式，使海水电解。
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