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公开(公告)号：CN1086622C
公开(公告)日：2002-06-26
申请号：CN97126446.5
申请日：1997-12-19
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: B29B7/18
CPC classification number: B29B7/186
Abstract: 一种封闭式搅拌装置，该封闭式搅拌装置能够在各种搅拌条件下均匀搅拌和粉碎搅拌物，不需要维修第一和第二转子的转子转动机构工序，同时搅拌物装置的吞吐量没有损失，避免了搅拌物温度的过度增长。在该装置中，当第一和第二转子在腔室内转动时，通过搅拌物在腔室内壁和第一和第二转子之间的顶端间隙的流动获得所需搅拌状态的搅拌物，并通过所施加的剪切力粉碎搅拌物。相对应第一和第二转子装有三个具有多个顶部的螺旋形长叶片，并沿着轴向形成了三个顶端间隙。
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公开(公告)号：CN1077489C
公开(公告)日：2002-01-09
申请号：CN97114819.8
申请日：1997-06-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B29B7/283 , B29B7/183 , Y10S366/601
Abstract: 本发明涉及一种在混合操作过程中不需停机就能按照混合操作的每个阶段将两个转子之间的相位差和速比改变到适当的数值的密闭式混合机。该密闭式混合机包括：置于一混合腔室中的不相互啮合的两个转子；分别转动两个转子的两个驱动单元；分别测量两个转子相位的两个相位测量装置；分别测量两个转子速度的两个测速装置；一个根据来自两个测速装置的信号和来自两个相位测量装置的信号控制两个驱动单元的控制单元。
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公开(公告)号：CN106460159B
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201580033266.9
申请日：2015-07-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/32
Abstract: 本发明提供一种电弧蒸发源，能够将电弧点稳定地保持在靶材的前端面，而且，能够实现装置的小型化。电弧蒸发源(1)包括：通过电弧放电而从前端面(3a)开始熔解并蒸发的靶材(3)；以及被配置在从靶材(3)的侧面(3b)朝向该靶材(3)的半径方向隔开距离的位置的至少一个磁铁(4)。磁铁(4)被配置成：形成在如下范围满足以下的条件a)以及b)的磁场(MF1)，其中，所述范围是处于沿着靶材(3)的侧面(3b)并且在靶材(3)的轴向上从靶材(3)的前端面(3a)起10mm为止的范围，条件a)为磁场的磁力线相对于靶材(3)的侧面(3b)所成的角度为45度以下，条件b)为在该磁力线的强度中的靶材(3)的轴向成分成为200G以上。
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公开(公告)号：CN105264110A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480031318.4
申请日：2014-05-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3277 , C23C14/562 , H01J37/32513 , H01J37/32733 , H01J37/32807 , H01J37/3288 , H01J37/32899 , H01J37/3417 , H01J37/3447 , H01J2237/162 , H01J2237/20278 , H01J2237/332 , H01L21/67132
Abstract: 提供一种能够不将成膜单元及其上游侧和下游侧单元上下重叠而确保作业空间的成膜装置。成膜装置包括成膜单元（16）、和配置在其左右的上游侧及下游侧单元（14、18）。成膜单元（16）具有：成膜辊（70）；多个引导辊（72）；主腔室（64），具有成膜辊收纳部（74）及其上侧的引导辊收纳部（76）；第1加工腔室和第2加工腔室（66、68），在成膜辊收纳部（74）的左右收纳多个成膜加工用设备（84、86）；和加工腔室支承部（104），将加工腔室（66、68）支承为，该加工腔室（66、68）能够在成膜用的通常位置与向左右退避的退避位置之间移动，并且能够在该退避位置与在前后方向上离开的露出位置之间移动。
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公开(公告)号：CN106460159A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580033266.9
申请日：2015-07-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/32
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/32 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3266 , H01J37/32669
Abstract: 本发明提供一种电弧蒸发源，能够将电弧点稳定地保持在靶材的前端面，而且，能够实现装置的小型化。电弧蒸发源(1)包括：通过电弧放电而从前端面(3a)开始熔解并蒸发的靶材(3)；以及被配置在从靶材(3)的侧面(3b)朝向该靶材(4)。磁铁(4)被配置成：形成在如下范围满足以下的条件a)以及b)的磁场(MF1)，其中，所述范围是处于沿着靶材(3)的侧面(3b)并且在靶材(3)的轴向上从靶材(3)的前端面(3a)起10mm为止的范围，条件a)为磁场的磁力线相对于靶材(3)的侧面(3b)所成的角度为45度以下，条件b)为在该磁力线的强度中的靶材(3)的轴向成分成为200G以上。(3)的半径方向隔开距离的位置的至少一个磁铁
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102348828B
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201080011271.7
申请日：2010-04-14
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/325 , C23C14/54 , H01J37/32055 , H01J37/32669 , H01J37/34 , H01J37/345
Abstract: 在电弧式蒸发源中，将磁力线诱导到基板方向而加快成膜速度。其中，具有以包围靶(2)的外周的方式设置，且磁化方向沿着与靶(2)的表面正交的方向而配置的至少一个外周磁体(3)，和配置在靶(2)的背面侧的背面磁体(4)。背面磁体(4)具有非环状的第一永久磁体(4A)，其配置方式为，使其极性与外周磁体3的极性朝向同方向，并且沿着与背面磁体(4)的磁化方向与靶(2)的表面正交的方向而配置。
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公开(公告)号：CN102348828A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201080011271.7
申请日：2010-04-14
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/325 , C23C14/54 , H01J37/32055 , H01J37/32669 , H01J37/34 , H01J37/345
Abstract: 在电弧式蒸发源中，将磁力线诱导到基板方向而加快成膜速度。其中，具有以包围靶(2)的外周的方式设置，且磁化方向沿着与靶(2)的表面正交的方向而配置的至少一个外周磁体(3)，和配置在靶(2)的背面侧的背面磁体(4)。背面磁体(4)具有非环状的第一永久磁体(4A)，其配置方式为，使其极性与外周磁体3的极性朝向同方向，并且沿着与背面磁体(4)的磁化方向与靶(2)的表面正交的方向而配置。
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公开(公告)号：CN1152271A
公开(公告)日：1997-06-18
申请号：CN96190389.9
申请日：1996-04-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: B29B7/183 , B29B7/186 , B29B7/7495 , B29C47/0004 , B29C47/0009 , B29C47/0813 , B29C47/0861 , B29C47/402 , B29C47/6056 , B29K2021/00 , B29K2105/0005 , B29K2105/16
Abstract: 本发明的密闭型搅拌装置备有形成蚕茧形断面密闭腔(2)的机身部件(1)和平行地配置在上述腔(2)内的、反向旋转的一对旋转体(3)(4)，其特征在于，各旋转体(3)(4)具有在圆周方向等角度的3个绕中心轴螺旋状延伸的长翼(18)(19)(20)，各旋转体(3)(4)的中心轴(17a、17b)以上述长翼(18)(19)(20)不相互咬合的程度相距距离L，长翼部分(18)(19)(20)的旋转体断面形状为下列中的一种：(a)上述旋转体断面形状为略三角形；(b)上述旋转体断面形状中的旋转方向背面(26)的反作用面(22)包含以翼的翼尖(21)的端点(18a)为起点的直线；(c)上述旋转体断面形状中的旋转方向背面(26)由一个光滑的近似凹形或近似凸形或近似直线的曲面形成，设上述旋转体断面形状的最大直径为Dr、最小直径为Dd时，在0.5＜Dd/Dr＜0.7的范围内，最好在0.6＜Dd/Dr＜0.7的范围内；重要的是要把反作用面(22)做成为比较平坦的面。
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公开(公告)号：CN105264110B
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201480031318.4
申请日：2014-05-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3277 , C23C14/562 , H01J37/32513 , H01J37/32733 , H01J37/32807 , H01J37/3288 , H01J37/32899 , H01J37/3417 , H01J37/3447 , H01J2237/162 , H01J2237/20278 , H01J2237/332 , H01L21/67132
Abstract: 提供一种能够不将成膜单元及其上游侧和下游侧单元上下重叠而确保作业空间的成膜装置。成膜装置包括成膜单元（16）、和配置在其左右的上游侧及下游侧单元（14、18）。成膜单元（16）具有：成膜辊（70）；多个引导辊（72）；主腔室（64），具有成膜辊收纳部（74）及其上侧的引导辊收纳部（76）；第1加工腔室和第2加工腔室（66、68），在成膜辊收纳部（74）的左右收纳多个成膜加工用设备（84、86）；和加工腔室支承部（104），将加工腔室（66、68）支承为，该加工腔室（66、68）能够在成膜用的通常位置与向左右退避的退避位置之间移动，并且能够在该退避位置与在前后方向上离开的露出位置之间移动。
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公开(公告)号：CN106460173A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580018128.3
申请日：2015-02-27
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C16/509 , C23C16/54 , H05H1/46
Abstract: 提供一种在关于成膜辊的轴向的进行成膜的范围中、在不被卷绕基材的部分中防止异常放电的发生的等离子体化学气相沉淀成膜装置。等离子体化学气相沉淀成膜装置（10）具备：真空腔室（1）；金属制的成膜辊（2），在该成膜辊（2）的外周面中的周方向的一部分上卷绕带状的基材；磁场生成部（3），配置在成膜辊（2）的内部，在成膜辊（2）的外周面中的被卷绕基材的部分的外侧生成磁场；电源（4），连接在成膜辊（2）上，对该成膜辊（2）施加用来在磁场的区域内生成等离子体的交流电压；罩（9），将成膜辊（2）的外周面中的相对于被卷绕基材（A）的部分（2a）隔着该成膜辊2）的旋转轴位于相反侧的部分且不与该基材A）接触的部分（2b）覆盖。
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