公开(公告)号：CN116323218A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180070756.1

申请日：2021-09-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 篠崎弘行 ,  浅井润树 ,  向山佳孝

IPC: B33Y10/00

Abstract: 在AM系统中，构建粉末材料等微粒不会从能够存在微粒的区域飞散到其他区域的环境。根据一个实施方式，提供一种用于制造造型物的AM系统，该AM系统具有：造型室，该造型室配置有AM装置；以及缓冲室，该缓冲室与所述造型室相连，所述缓冲室具有：入口，该入口与周围环境相连；出口，该出口与所述造型室相连；格栅地板；以及排气口，所述AM系统具有：第一门，该第一门能够对所述缓冲室的所述入口进行开闭；以及第二门，该第二门能够对所述缓冲室的所述出口进行开闭。

公开(公告)号：CN116323395B

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202180068714.4

申请日：2021-09-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 篠崎弘行 ,  浅井润树

IPC: B65G65/40 ,  B22F3/16 ,  B22F3/105 ,  B29C64/268 ,  B33Y30/00 ,  B33Y10/00 ,  B23K26/144 ,  B65G65/32 ,  B65B3/00 ,  B65B1/00

Abstract: 提供一种粉末供给装置。根据一个实施方式，提供粉末供给装置，所述粉末供给装置具有：用于保持粉末的容器；用于向所述容器供给粉末的供给通路；以及用于对所述供给通路进行开闭的阀结构，所述阀结构具有能够在关闭所述供给通路的第一位置与打开所述供给通路的第二位置之间移动的阀主体和用于供所述阀主体落座的阀座，所述阀主体具有第一密封部和第二密封部，所述阀座具有供所述第一密封部落座的第一座部和供所述第二密封部落座的第二座部，所述阀结构在所述第一密封部落座于所述第一座部且所述第二密封部落座于所述第二座部时划分出被密闭的空间，所述阀结构具有用于从所述被密闭的空间排出气体的排气通路和用于监视所述被密闭的空间的压力的压力监视通路。

公开(公告)号：CN116997429A

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN202280022294.0

申请日：2022-02-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 浅井润树

IPC: B22F12/52

Abstract: 提供一种在基于AM法的造型中，用于向材料供给装置补充粉末材料的结构。根据一实施方式，提供一种AM装置，该AM装置具有：DED喷嘴，该DED喷嘴用于射出粉末材料；门架机构，该门架机构用于使所述DED喷嘴移动；以及材料供给装置，该材料供给装置用于向所述DED喷嘴供给粉末材料，所述门架机构具有Y轴部件，该Y轴部件能够沿作为水平方向的X方向移动，并沿与所述X方向垂直且作为水平方向的Y方向延伸，所述DED喷嘴和所述材料供给装置安装于所述门架机构的所述Y轴部件，所述门架机构具有Y轴移动机构，该Y轴移动机构用于使所述DED喷嘴和所述材料供给装置在所述Y轴部件上沿着Y方向移动。

公开(公告)号：CN116323395A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180068714.4

申请日：2021-09-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 篠崎弘行 ,  浅井润树

IPC: B65B1/00

Abstract: 提供一种粉末供给装置。根据一个实施方式，提供粉末供给装置，所述粉末供给装置具有：用于保持粉末的容器；用于向所述容器供给粉末的供给通路；以及用于对所述供给通路进行开闭的阀结构，所述阀结构具有能够在关闭所述供给通路的第一位置与打开所述供给通路的第二位置之间移动的阀主体和用于供所述阀主体落座的阀座，所述阀主体具有第一密封部和第二密封部，所述阀座具有供所述第一密封部落座的第一座部和供所述第二密封部落座的第二座部，所述阀结构在所述第一密封部落座于所述第一座部且所述第二密封部落座于所述第二座部时划分出被密闭的空间，所述阀结构具有用于从所述被密闭的空间排出气体的排气通路和用于监视所述被密闭的空间的压力的压力监视通路。