废气处理装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107429914A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201580077529.6

    申请日:2015-11-06

    Abstract: 本发明涉及对从制造半导体器件、液晶、LED等的制造装置等排出的废气进行燃烧处理而进行无害化的废气处理装置。废气处理装置是对处理气体进行燃烧处理而进行无害化的废气处理装置,对处理气体进行燃烧的圆筒状的燃烧室(1)具备将燃料、助燃性气体和处理气体分别朝向燃烧室(1)的内周面的切线方向吹入的燃料用喷嘴(3A)、助燃性气体用喷嘴(3B)和处理气体用喷嘴(3C),燃料用喷嘴(3A)、助燃性气体用喷嘴(3B)和处理气体用喷嘴(3C)位于与燃烧室(1)的轴线正交的同一平面上。

    废气处理装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107429914B

    公开(公告)日:2019-06-11

    申请号:CN201580077529.6

    申请日:2015-11-06

    Abstract: 本发明涉及对从制造半导体器件、液晶、LED等的制造装置等排出的废气进行燃烧处理而进行无害化的废气处理装置。废气处理装置是对处理气体进行燃烧处理而进行无害化的废气处理装置,对处理气体进行燃烧的圆筒状的燃烧室(1)具备将燃料、助燃性气体和处理气体分别朝向燃烧室(1)的内周面的切线方向吹入的燃料用喷嘴(3A)、助燃性气体用喷嘴(3B)和处理气体用喷嘴(3C),燃料用喷嘴(3A)、助燃性气体用喷嘴(3B)和处理气体用喷嘴(3C)位于与燃烧室(1)的轴线正交的同一平面上。

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