公开(公告)号：CN106513973A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201610937331.7

申请日：2016-10-25

Applicant: 桂林电子科技大学

Inventor： 魏德强 ,  李新凯 ,  卢健 ,  高浩 ,  王荣 ,  韦凤兰 ,  钟盛 ,  任旭龙 ,  王优

IPC: B23K15/06 ,  B23K15/00

CPC classification number: B23K15/06 ,  B23K15/00 ,  B23K15/0033

Abstract: 本发明公开一种用于电子束微熔抛光的扫描方法，涉及金属表面改性技术，主要包括以下步骤：步骤一、确定电子束束斑尺寸；步骤二、使电子束周期性地在X-Y平面内按圆形轨迹运动；步骤三、真空室抽真空处理，设定电子束扫描方式以及电子束扫描工艺参数；步骤四、工作台直线进给运动，同时进行电子束扫描来实现待加工工件的电子束微熔抛光的扫描。本发明既可以克服常用方法的深宽比过大、能量密度分布不均匀等不足，又可满足常用金属材料表面的组织结构、机械性能、表面粗糙度等的提高和改善要求；有利于控制能量密度的均匀分布，提高表面质量、防止表面缺陷的产生。