一种基于二苯并呋喃基团的蓝光空穴阻挡材料的合成方法

    公开(公告)号:CN119264185A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411793943.4

    申请日:2024-12-09

    Abstract: 本发明涉及电致发光材料领域,具体涉及一种基于二苯并呋喃基团的蓝光空穴阻挡材料的合成方法。所述蓝光空穴阻挡材料的合成原料包括二苯并呋喃和含苯基的膦酸酯。本申请中蓝光空穴阻挡材料,形成兼具空穴传输、激子阻挡性能,适用于各类有机发光器件,使其表现出高的热稳定性,进而具有良好发光寿命和发光效率。且改材料制备条件温和,产品收率高,纯度高,合成工艺对环境友好,可推广于工业化生产。

Patent Agency Ranking