一种BOE蚀刻液组合物
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103756681A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201310755319.0

    申请日:2013-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种BOE蚀刻液组合物。包括浓度为0.5-30wt%的氢氟酸(HF),浓度为1-40wt%的氟化铵(NH4F)和水,所述组合物还含有添加剂,所述添加剂为脂肪族有机酸(C2-C12)、脂肪族有机碱(C2-C12)、脂肪族有机醇(C2-C12)中的一种或其混合物,BOE蚀刻液组合物还进一步含有烷基硫酸铵盐阴离子表面活性剂。相对传统的湿法蚀刻组合物,本发明所述BOE蚀刻液对二氧化硅具有较高的蚀刻选择性,可高速蚀刻二氧化硅,并且BOE蚀刻液对硅片具有低接触角,可明显改善BOE蚀刻液对硅片蚀刻层的润湿和蚀刻均匀性。

    一种液相法生产高纯电子级氟化铵蚀刻液的方法

    公开(公告)号:CN102627298A

    公开(公告)日:2012-08-08

    申请号:CN201210112697.2

    申请日:2012-04-17

    Abstract: 本发明公开了一种液相法生产高纯电子级氟化铵蚀刻液的方法,将质量百分浓度为49~70%的高纯HF水溶液和质量百分浓度为27~33%的高纯氨水溶液,按质量比1∶1.3~2.3进行中和反应,控制反应温度为10~50℃,至反应液PH值为6~7时结束反应,过滤去除粒径大于0.2微米的颗粒杂质后,即得到质量百分浓度为40±0.2%的高纯电子级氟化铵蚀刻液,本发明生产效率高、安全环保、产品质量稳定,各金属离子含量分别小于0.1ppb,大于0.2微米的颗粒杂质为20PCS/ml以内,大于0.3微米的颗粒杂质为10PCS/ml以内,大于0.5微米的颗粒杂质为2PCS/ml以内。

    一种BOE蚀刻液的制备方法

    公开(公告)号:CN103756680A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201310754779.1

    申请日:2013-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种BOE蚀刻液的制备方法。包括如下步骤:(1)将浓度为49wt%氢氟酸(HF),浓度为30wt%氨水,超纯水依次加入到反应器中,于室温下搅拌反应6-12小时,得到氢氟酸(HF)与氟化铵(NH4F)的混合物;(2)向步骤(1)所得混合物中依次加入添加剂、烷基硫酸铵盐阴离子表面活性剂,室温下搅拌混合6-18小时,混合均匀后得通明的BOE蚀刻液。本发明所述方法制备的BOE蚀刻液对二氧化硅具有较高的蚀刻选择性,且可明显降低BOE蚀刻液对硅片的接触角。此外,本发明制备方法操作简单,所得BOE蚀刻液杂质含量低。

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