公开(公告)号：CN101817645A

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN201010122919.X

申请日：2010-03-12

Applicant: 浙江大学

Inventor： 高长有 ,  韩璐璐 ,  周晶 ,  龚晓

IPC: C03C17/28 ,  C04B41/48 ,  C08L25/06 ,  C08L39/00

Abstract: 本发明公开的聚电解质多层膜上构建物理图案的方法，步骤包括：将溶剂滴加到聚电解质多层膜表面，把硅橡胶印章盖到湿润的多层膜上，放入20-70℃烘箱中挥发去除溶剂，待溶剂挥发后揭掉印章，得到图案化聚电解质多层膜。采用本发明方法通过改变聚电解质多层膜厚度、成型温度和溶剂，可以得到所需要不同高度和不同结构的图案。制备工艺简单，无需外力，成型时间短，可控性强，适用体系广泛。所得图案化表面有望用于光学、组织工程、传感器等领域。

公开(公告)号：CN101817645B

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：CN201010122919.X

申请日：2010-03-12

Applicant: 浙江大学

Inventor： 高长有 ,  韩璐璐 ,  周晶 ,  龚晓

IPC: C03C17/28 ,  C04B41/48 ,  C08L25/06 ,  C08L39/00

Abstract: 本发明公开的聚电解质多层膜上构建物理图案的方法，步骤包括：将溶剂滴加到聚电解质多层膜表面，把硅橡胶印章盖到湿润的多层膜上，放入20-70℃烘箱中挥发去除溶剂，待溶剂挥发后揭掉印章，得到图案化聚电解质多层膜。采用本发明方法通过改变聚电解质多层膜厚度、成型温度和溶剂，可以得到所需要不同高度和不同结构的图案。制备工艺简单，无需外力，成型时间短，可控性强，适用体系广泛。所得图案化表面有望用于光学、组织工程、传感器等领域。