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公开(公告)号：CN113341647A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110460609.7
申请日：2021-04-27
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
Abstract: 一种干膜抗蚀剂组合物，其特征在于，包括：45～60重量份的碱可溶性树脂、35～50重量份的光聚合性单体、0.1～10.0重量份的光聚合引发剂、0.5‑5重量份的添加剂；其中，光聚合性单体至少包括有EO/PO修饰的双酚A结构（甲基）丙烯酸酯化合物，以及极性基团和酸性基团共同改性的碱可溶性（甲基）丙烯酸酯化合物。本发明所述的干膜抗蚀剂组合物制备的干膜抗蚀剂层压体具有优异的附着力、良好的去膜性和显影性、良好的机械强度和柔韧性，适合用于制作高精密PCB的干膜抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN113156764A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110422942.9
申请日：2021-04-20
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
Abstract: 本发明属于印刷电路板制造技术领域，具体公开了一种感光性树脂组合物及抗蚀剂层压体，所述感光性树脂组合物至少由以下质量份的原料制成：第一碱溶性树脂0‑60份，光聚合性化合物30‑45份，光引发剂0.5‑5份，第二碱溶性树脂2‑62份；所述第一碱溶性树脂为不含酸酐的碱溶性共聚物树脂，所述第二碱溶性树脂为具有多元酸酐的碱溶性共聚物树脂；所述第一碱溶性树脂和第二碱溶性树脂的总酸酐当量不超过0.850mmoL/g。本发明感光性树脂组合物作为抗蚀剂时，剥离性能好，掩孔性佳，并且具有高分辨率、高密合性以及良好的抗镀性。
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公开(公告)号：CN112824973A
公开(公告)日：2021-05-21
申请号：CN201911144334.5
申请日：2019-11-20
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
Abstract: 本发明提供了一种干膜抗蚀剂层压体。该干膜抗蚀剂层压体包括支撑层、第一抗蚀剂层和第二抗蚀剂层，第一抗蚀剂层涂覆于支撑层的一侧表面上；第二抗蚀剂层涂覆于第一抗蚀剂层的远离支撑层的一侧表面上；其中，第二抗蚀剂层的曝光速度大于第一抗蚀剂层的曝光速度。将一个干膜抗蚀体分成两层叠加，吸收同一种光源同时进行不同速度的曝光，可以解决干膜厚度比较大特别是超过50um以后，抗蚀剂底部光固化弱易出现的曝光不良现象问题。因此，该干膜抗蚀剂层压体在印刷电路板、引线框架、金属精密加工、半导体封装、IC载板制作等领域中作为蚀刻或镀敷用的干膜抗蚀剂层压体材料，在图形曝光显影后，能够得到侧边形貌优良，菱角分明清晰的图案。
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公开(公告)号：CN111856881A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010686597.5
申请日：2020-07-16
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种感光树脂组合物、制备方法、干膜抗蚀剂及相应的元件，属于电路印刷元件的制备技术领域。感光树脂组合物，包含50~70%的碱溶性树脂，碱可溶性树脂分子的侧链具有芳香族基团或脂环碳氢结构、30~50%的光自由基聚合单体、0.1~5%的光引发剂、0.01~1%的附着力促进剂，该感光树脂组合物所制得的干膜抗蚀剂具有良好的耐电镀特性和可剥离特性，并且该感光性树脂组合物具有良好的盖孔能力及高解析度。
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公开(公告)号：CN109912616A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201910214276.2
申请日：2019-03-20
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
IPC: C07D493/04 , C07D307/89 , C07D307/93 , C08G73/10 , C08J5/18 , C08L79/08
Abstract: 本发明公开了一种脂环族二酐单体及高透明低介电常数聚酰亚胺薄膜，本发明首先将二胺单体充分溶解于非质子性极性溶剂中，之后加入溶解有脂环族二酐单体的非质子性极性溶液，并在氮气或惰性气体的保护下于-10～35℃范围内反应0.5-6h，得到脂环族聚酰亚胺前体溶液，然后将脂环族聚酰亚胺前体溶液涂布于基材上，酰亚胺化后进行应力消除，制得高透明低介电常数聚酰亚胺薄膜。本发明制备的薄膜，其介电常数及介电损耗低，显示出优异的透光性能。此外，还具有良好的力学性能，可以满足微电子工业级特殊显示领域的应用要求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109188865B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201811018276.7
申请日：2018-09-03
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
Abstract: 本发明公开了一种感光覆盖膜组合物及应用，所述感光覆盖膜组合物包括40‑70重量份树脂粘结剂、25‑50重量份光聚合性组合物、1‑10重量份光引发剂以及1‑3重量份添加剂；其中，所述树脂粘结剂由15‑50wt％的含有环氧结构的树脂粘结剂和50‑85wt％的(甲基)丙烯酸类碱可溶性树脂粘结剂组成。与传统的油墨以及聚酰亚胺类感光覆盖膜相比，本发明具有弱碱性水溶液显影、原材料易得以及薄膜直接贴合的特点，因此，具有环境友好、降低成本、操作方便的优点。
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公开(公告)号：CN113801291A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202110460164.2
申请日：2021-04-27
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
Abstract: 本发明公开了感光树脂组合物、感光干膜抗蚀剂和PCB板的制作方法。该感光树脂组合物包含：（A）45～65重量份的碱可溶性树脂、（B）35～50重量份的光聚合单体、（C）0.1～2.0重量份光引发剂、（D）0.5‑5wt%添加剂组成；所述光聚合单体为极性基团改性的聚氨酯（甲基）丙烯酸酯，所述光聚合单体的重均分子量为800~10000g/mol。本发明所述的感光干膜抗蚀剂与现有技术相比，提升干膜抗蚀剂的分辨率、与覆铜板基材间的附着力的同时，具有优异的盖孔性、柔韧性、耐电镀性、填埋性等，提升干膜各种关键性能的兼容性，提升综合性能，满足下游客户端多种性能要求，提升下游客户PCB的生产良率和生产效率，同时可以有效地减少干膜厂家的干膜牌号，降低其研发生产成本、提升生产效率。
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公开(公告)号：CN113174040A
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202110460318.8
申请日：2021-04-27
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
IPC: C08G65/332 , C08G65/335 , G03F7/027 , C07F9/6521
Abstract: 本发明属于感光材料技术领域，尤其涉及一种光聚合单体，及其组成的高分辨率高附着LDI干膜抗蚀剂。本发明通过对现有丙烯酸酯化合物进行改性，并且配合特定组成和比例的碱可溶性树脂、光引发剂组分以及添加剂的方式，制得综合性能突出的干膜抗蚀剂，以满足下游PCB面板生产厂商用LDI曝光方法制作高精密内层板工艺的要求。本发明具有以下优点：第一、改进的功能性光聚合单体，可以使得最终的干膜抗蚀剂与覆铜板基材之间的附着力，自身的耐蚀刻能力、显影性和分辨率都得到大大提高；第二、干膜抗蚀剂的光敏性提高、显影速度加快，能满足激光直接描绘成像技术的要求；第三、干膜抗蚀剂形成的干膜侧边形貌良好，提升生产良率。
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公开(公告)号：CN111965939A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN202010801943.X
申请日：2020-08-11
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及应用材料领域，具体公开一种兼具高附着与优异盖孔填充性能的感光树脂组合物，该组合物是由（A）45-65wt%重均分子量在50,000~150,000的碱可溶性共聚物树脂，(B)30-50wt%的具有至少一个末端烯属不饱和基团的加成聚合性单体，(C)1-3wt%的光聚合引发剂，(D)0.5-2%的添加剂组成。本发明利用在感光树脂组合物内添加端基具有含氮糖基的聚醚长链丙烯酸酯化合物，引入含氮糖基，可增强其对覆铜基材表面的结合力，二聚乙二醇与聚丙二醇长链使其作为抗蚀剂材料，拥有高附着、高解析和优异的掩孔与填充性能，从而拓宽了DFR的应用范围。
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公开(公告)号：CN110515271A
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201910805266.6
申请日：2019-08-29
Applicant: 浙江福斯特新材料研究院有限公司
IPC: G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种感光性树脂组合物及其应用。本发明的树脂组合物包括40-70重量份的碱可溶性树脂、20-50重量份的光聚合单体、0.5-10.0重量份光引发剂和0.1-10.0重量份添加剂；所述光聚合单体包括0.5-15.0重量份的含有碳酸酯结构的单体。该感光性树脂组合物用作干膜抗蚀剂，具有退膜易断裂、退膜碎片较小、退膜速度快等特性，同时线路分辨率、附着力良好，从而有效地提高生产效率和产品良率。
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