公开(公告)号：CN106338788A

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201610871589.1

申请日：2016-09-29

Applicant: 深圳大学

Inventor： 汪超 ,  何俊 ,  王义平 ,  靳伟

IPC: G02B5/18 ,  G02B6/02

CPC classification number: G02B5/1857 ,  G02B6/02295

Abstract: 本发明适用于光栅制备技术领域，提供了一种在光子晶体光纤上高效制备布拉格光栅的方法，所述方法包括：选择性膨胀加工步骤，将光子晶体光纤的待加工光栅区进行选择性膨胀加工，以使所述光子晶体光纤的待加工光栅区的部分包层孔崩塌，形成局部的简化包层区；制备布拉格光栅步骤，在光子晶体光纤的简化包层区进行激光刻栅，从而形成布拉格光栅。本发明提供的方法解决了在光子晶体光纤上制备布拉格光栅时，其包层孔会对侧面加工激光造成较强散射，导致光子晶体光纤加工光栅效率极低的问题。

公开(公告)号：CN106338788B

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201610871589.1

申请日：2016-09-29

Applicant: 深圳大学

Inventor： 汪超 ,  何俊 ,  王义平 ,  靳伟

IPC: G02B5/18 ,  G02B6/02

Abstract: 本发明适用于光栅制备技术领域，提供了一种在光子晶体光纤上高效制备布拉格光栅的方法，所述方法包括：选择性膨胀加工步骤，将光子晶体光纤的待加工光栅区进行选择性膨胀加工，以使所述光子晶体光纤的待加工光栅区的部分包层孔崩塌，形成局部的简化包层区；制备布拉格光栅步骤，在光子晶体光纤的简化包层区进行激光刻栅，从而形成布拉格光栅。本发明提供的方法解决了在光子晶体光纤上制备布拉格光栅时，其包层孔会对侧面加工激光造成较强散射，导致光子晶体光纤加工光栅效率极低的问题。