公开(公告)号：CN103280415B

公开(公告)日：2016-07-27

申请号：CN201310210087.0

申请日：2009-06-19

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 大卫·苏若恩 ,  岱尔·K·史东 ,  茂雄·S·大城 ,  亚瑟·P·瑞福 ,  爱德华·D·梅克英特许

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/317 ,  H01J37/32 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2007 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明揭示一种用以将基材连接于地面的接地引脚。接地引脚包括引脚主体以及套管。套管支撑引脚主体。套管包括一流体通道，以传输流体，并使流体通道的两侧的压力处于压力平衡。

公开(公告)号：CN102119439B

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN200980131177.2

申请日：2009-06-19

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 大卫·苏若恩 ,  岱尔·K·史东 ,  茂雄·S·大城 ,  亚瑟·P·瑞福 ,  爱德华·D·梅克英特许

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2007 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明揭示减少基材上粒子污染的技术。在一特殊实施例中，此技术可以一具有多个不同区域的平台来实施，其中这些区域中的压力值可实质上相同。举例来说，平台可包括一平台主体，其包括第一与第二凹陷，第一凹陷定义出一流体区域用以保持流体以维持基材的温度于一预定温度，第二凹陷定义出一第一凹槽用以保持一接地电路；一第一通孔定义于平台主体中，第一通孔具有第一与第二开口，第一开口邻近于流体区域，而第二开口邻近于第一凹槽，其中流体区域的压力值可维持在一准位，且此准位实质上相等于第一凹槽的压力值。

公开(公告)号：CN102119439A

公开(公告)日：2011-07-06

申请号：CN200980131177.2

申请日：2009-06-19

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 大卫·苏若恩 ,  岱尔·K·史东 ,  茂雄·S·大城 ,  亚瑟·P·瑞福 ,  爱德华·D·梅克英特许

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2007 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明揭示减少基材上粒子污染的技术。在一特殊实施例中，此技术可以一具有多个不同区域的平台来实施，其中这些区域中的压力值可实质上相同。举例来说，平台可包括一平台主体，其包括第一与第二凹陷，第一凹陷定义出一流体区域用以保持流体以维持基材的温度于一预定温度，第二凹陷定义出一第一凹槽用以保持一接地电路；一第一介层窗定义于平台主体中，第一介层窗具有第一与第二开口，第一开口邻近于流体区域，而第二开口邻近于第一凹槽，其中流体区域的压力值可维持在一准位，且此准位实质上相等于第一凹槽的压力值。

公开(公告)号：CN103280415A

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN201310210087.0

申请日：2009-06-19

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 大卫·苏若恩 ,  岱尔·K·史东 ,  茂雄·S·大城 ,  亚瑟·P·瑞福 ,  爱德华·D·梅克英特许

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/317 ,  H01J37/32 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2007 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明揭示一种用以将基材连接于地面的接地引脚。接地引脚包括引脚主体以及套管。套管支撑引脚主体。套管包括一流体通道，以传输流体，并使流体通道的两侧的压力处于压力平衡。