一种电镀铜氧化还原型添加剂的定量方法

    公开(公告)号:CN119352116A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411465215.0

    申请日:2024-10-21

    Abstract: 本发明属于电子电路制造领域,涉及大马士革晶圆电镀铜、封装载板及印制电路板中涉及的电镀铜技术,具体提供一种电镀铜氧化还原型添加剂的定量方法,用以实现酸性硫酸盐电子电镀铜镀液中氧化还原型添加剂浓度测量;本发明基于伏安分析法提出一种氧化还原型添加剂的消耗电荷量的测量方法,同时可以测量电镀液的法拉第电流效率,通过氧化还原型添加剂的消耗电荷量或法拉第电流效率的标定,结合电化学定量分析方法测定电镀液中氧化还原型添加剂的浓度,具有线性重现性好、精度高、操作简单等优点,在印制板、封装基板及集成电路制造等领域具有重要的应用价值。

    一种含铑的PCB基板化学镀活化液及其化学镀方法

    公开(公告)号:CN117328047A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311157096.8

    申请日:2023-09-08

    Abstract: 本发明提供一种含铑的PCB基板化学镀活化液及其化学镀方法,属于化学活化及化学镀领域。首先提供一种活化改性液的制备方法,使其作为绝缘基材表面改性活化桥接层,改性液配方包含:环氧树脂20~40g/L、丁酮0.03~0.06mol/L、乙酰丙酮三苯基膦羰基铑(Ⅰ)0.1~0.2g/L、三氯甲烷0.025~0.05mol/L、乙二胺0.045~0.09mol/L。其次,利用硼氢化钠溶液作为还原剂将有机金属化合物中的铑还原并有效沉积在绝缘基材表面形成活性种来催化化学镀。最后配合后续化学镀工艺即可形成致密、光亮、附着力强的镀层。该活化改性液配方配制简便、操作简单、实施成本小,不会腐蚀印制电路基板及工艺设备,与现有的印制电路制造条件具有良好的兼容性。

    一种PCB用覆铜板电镀Ni-Co-Ce薄膜镀液及薄膜制备方法

    公开(公告)号:CN114016098B

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202111226368.6

    申请日:2021-10-21

    Abstract: 本发提供一种印制电路覆铜板铜面电沉积Ni‑Co‑Ce合金薄膜的镀液配方与制备方法、以及使用该镀液在覆铜板表面制作Ni‑Co‑Ce合金薄膜方法。镀液配方包含:氯化镍0.03~0.05mol/L、硫酸钴0.03~0.05mol/L、导电添加物0.1~0.2mol/L、pH缓冲剂0.1~0.2mol/L、电镀添加剂0.1~0.2mol/L、硫酸高铈0.005~0.03mol/L、去离子水等,电镀获得的Ni‑Co‑Ce合金薄膜可用于多层印制电路板电子线路防护、层间结合力及高频信号完整性提升等。同时镀液配方配制简便且不腐蚀印制电路基板、电镀工艺与设备与印制电路制造领域现有条件兼容性较好,极大降低技术改造投入与产品制造成本。

    一种全树脂片式电感的制作方法

    公开(公告)号:CN114678208A

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202210345465.5

    申请日:2022-04-02

    Abstract: 本发明提供了一种全树脂片式电感的制作方法,包括如下步骤:制作第一线圈和第一层电极,然后贴膜、曝光、显影、电镀制作第一铜柱和第二层电极;用前步骤相同的方法制作第二线圈和第三层电极、第二铜柱和第四层电极;以第一线圈、第一铜柱、第二线圈、第二铜柱的交替结构为基本单元,循环向上制作可得到全树脂片式电感;相对于传统的片式电感制作方法,本发明大大简化了制作流程,降低了工艺难度。同时,本发明制得的片式电感实现了L型端电极与线圈一体化制作。

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