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公开(公告)号：CN101558468A
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200780045883.6
申请日：2007-12-07
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Abstract: 一种用于X射线管焦斑参数控制的设备及方法，其中，在X射线管中探测到杂散电子。所探测到的电子导致了一种具有特征模式的信号。可以对所述特征模式进行评估，并且基于评估可以输出控制信号，从而可基于所探测的杂散电子实施对X射线管的操作参数的快速并且精确的控制。
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公开(公告)号：CN100538984C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN03807577.6
申请日：2003-03-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/105 , H05G1/025
Abstract: 本发明涉及一种用于产生X射线(41)的装置。该装置包括用于产生电子束(35)的源(5)、可围绕旋转轴线(15)旋转并设有可因电子的入射而产生X射线的材料(9)的载台(7)。该装置还包括吸热件(45)，其设置在源与载台之间以捕获从载台上的电子束撞击位置(39)处散射回来的电子，并吸收在操作期间被加热的载台的一部分辐射热。吸热件与装置的冷却系统(51)热连接。根据本发明，吸热件(45)与冷却系统(51)之间的热连接包括热障(57)，其可限制吸热件与冷却系统之间的每单位温差内经由热连接而发生的传热率。在一个特定实施例中，所述热障包括所述吸热件通过其而安装在该装置上的环形安装件(57)，其具有有限的尺寸(hB)。作为所述热障的结果，被吸热件吸收的热量逐渐地传递到冷却系统中，因此就避免了冷却系统上的温度峰值负载以及冷却液沸腾等问题。此外，允许吸热件具有较高的温度，因此可显著地减小使吸热件能吸收足够多热量所必须的吸热件的质量和体积。
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公开(公告)号：CN102224558B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN200980147156.X
申请日：2009-11-19
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/10 , H01J2235/1046 , H01J2235/1204
Abstract: 在X-射线管的可旋转阳极(4)中，通过在阳极盘(4a)和第二轴承元件(11)之间的间隙(16a、b)中提供接触材料(14)，实现了在阳极(4a)的旋转盘和第二轴承元件(11)之间的热传递。接触元件(15)从第二轴承元件(11)突出到接触材料(14)中，从而允许将热量从阳极盘(4a)经由接触材料(14)和接触元件(15)传递至第二轴承元件(11)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102498540A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080040935.2
申请日：2010-09-13
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J35/28 , A61B6/025 , A61B6/4028 , A61B6/4488 , A61B6/502 , A61B6/508 , H01J35/065 , H01J35/12 , H01J2235/068 , H01J2235/1262
Abstract: 提出了一种分布式X射线源(3)和包括这种X射线源(3)的成像系统(1)。X射线源(3)包括电子束源装置(19)和阳极装置(17)。所述电子束源装置(19)适于向所述阳极装置(17)上至少两个局部相异的焦斑(27)发射电子束(24)。其中，所述X射线源适于使所述阳极装置(17)相对于所述电子束源装置(19)位移。提供多个焦斑能够在不同投影角下采集投影图像，由此允许例如在合成X射线断层摄影应用中重建三维X射线图像，同时，阳极装置(17)相对于电子束源装置(19)的位移运动可以允许通往阳极装置的分布式热流动，由此可能减小冷却要求。
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公开(公告)号：CN102422364A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201080020314.8
申请日：2010-05-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J35/06 , H01J35/14 , H01J2235/062 , H01J2235/068 , H01J2235/086
Abstract: 本发明涉及一种具有电子射束发生器(120)的X射线源(100)，所述电子射束发生器用于生成朝向靶(110)会聚的电子射束(B、B′)。由此，可以使靶(110)上的X射线焦斑(T、T′)的空间分布比电子射束源(121)的分布更加密集，其中，后者通常受到硬件限制的支配。所述电子射束发生器(120)尤其包括具有基于CNT的电子发射器(141)的矩阵的曲面发射器装置(140)和相关联的电极装置(130)。
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公开(公告)号：CN1647234A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03807577.6
申请日：2003-03-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/105 , H05G1/025
Abstract: 本发明涉及一种用于产生X射线(41)的装置。该装置包括用于产生电子束(35)的源(5)、可围绕旋转轴线(15)旋转并设有可因电子的入射而产生X射线的材料(9)的载台(7)。该装置还包括吸热件(45)，其设置在源与载台之间以捕获从载台上的电子束撞击位置(39)处散射回来的电子，并吸收在操作期间被加热的载台的一部分辐射热。吸热件与装置的冷却系统(51)热连接。根据本发明，吸热件(45)与冷却系统(51)之间的热连接包括热障(57)，其可限制吸热件与冷却系统之间的每单位温差内经由热连接而发生的传热率。在一个特定实施例中，所述热障包括所述吸热件通过其而安装在该装置上的环形安装件(57)，其具有有限的尺寸(hB)。作为所述热障的结果，被吸热件吸收的热量逐渐地传递到冷却系统中，因此就避免了冷却系统上的温度峰值负载以及冷却液沸腾等问题。此外，允许吸热件具有较高的温度，因此可显著地减小使吸热件能吸收足够多热量所必须的吸热件的质量和体积。
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公开(公告)号：CN102422364B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201080020314.8
申请日：2010-05-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J35/06 , H01J35/14 , H01J2235/062 , H01J2235/068 , H01J2235/086
Abstract: 本发明涉及一种具有电子射束发生器(120)的X射线源(100)，所述电子射束发生器用于生成朝向靶(110)会聚的电子射束(B、B′)。由此，可以使靶(110)上的X射线焦斑(T、T′)的空间分布比电子射束源(121)的分布更加密集，其中，后者通常受到硬件限制的支配。所述电子射束发生器(120)尤其包括具有基于CNT的电子发射器(141)的矩阵的曲面发射器装置(140)和相关联的电极装置(130)。
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公开(公告)号：CN102224558A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200980147156.X
申请日：2009-11-19
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/10 , H01J2235/1046 , H01J2235/1204
Abstract: 在X-射线管的可旋转阳极(4)中，通过在阳极盘(4a)和第二轴承元件(11)之间的间隙(16a、b)中提供接触材料(14)，实现了在阳极(4a)的旋转盘和第二轴承元件(11)之间的热传递。接触元件(15)从第二轴承元件(11)突出到接触材料(14)中，从而允许将热量从阳极盘(4a)经由接触材料(14)和接触元件(15)传递至第二轴承元件(11)。
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