公开(公告)号：CN1035614C

公开(公告)日：1997-08-13

申请号：CN93120706.1

申请日：1993-10-28

Applicant: 盐野义制药株式会社

Inventor： 松本佐市 ,  钓达男 ,  稻垣雅尚 ,  城山博邦

IPC: C07D275/02 ,  C07D333/48

CPC classification number: C07D275/02 ,  C07D291/06 ,  C07D417/10

Abstract: 用下面式I表示的具有抗炎活性的亚苄基衍生物：其中A是-CH2-或-CH2CH2；B是一个键或-CH2-，-CHOH-、-CO-、-O-，或A和B可以在一起形成-CH＝CH-；D是＝N-或＝CH-；R1和R2各自是氢、低级烷基或低级烷氧基；R3是氢、低级烷基、环烷基、低级烷氧基、芳烷氧基、杂芳烷氧基、低级烷基羰基、芳羰基、取代或未取代的氨基甲酰基，或下式基团：-(CH2)n-R4其中R1是氢、羟基、取代或未取代的氨基、芳基、杂芳基、羟基羰基或低级烷氧羰基；n是0-3整数。

公开(公告)号：CN1127492C

公开(公告)日：2003-11-12

申请号：CN98812648.6

申请日：1998-10-22

Applicant: 盐野义制药株式会社

Inventor： 松本佐市 ,  城山博邦 ,  觉道真治 ,  花崎浩二 ,  小泉谦三 ,  坂田恒昭 ,  铃木隆二

IPC: C07D275/02 ,  C07D417/06 ,  A61K31/425

CPC classification number: C07D275/02 ,  C07D417/06

Abstract: 本发明提供含有式I的化合物或者其药学可接受盐或水合物作为活性成分的新的抗风湿剂。

公开(公告)号：CN1044238C

公开(公告)日：1999-07-21

申请号：CN94105933.2

申请日：1994-05-26

Applicant: 盐野义制药株式会社

Inventor： 芳贺展弘 ,  稻垣雅尚 ,  松本佐市 ,  鎌田进

IPC: C07D275/02

CPC classification number: C07D275/02 ,  C07D265/02 ,  C07D291/06 ,  Y02P20/55

Abstract: 一种选择性制备特定的式III的立体异构的亚苄基衍生物的方法，其中各取代基和符号均如说明书中所定义。

公开(公告)号：CN1283194A

公开(公告)日：2001-02-07

申请号：CN98812648.6

申请日：1998-10-22

Applicant: 盐野义制药株式会社

Inventor： 松本佐市 ,  城山博邦 ,  觉道真治 ,  花崎浩二 ,  小泉谦三 ,  坂田恒昭 ,  铃木隆二

IPC: C07D275/02 ,  C07D417/06 ,  A61K31/425

CPC classification number: C07D275/02 ,  C07D417/06

Abstract: 本发明提供含有式Ⅰ的化合物或者其药学可接受盐或水合物作为活性成分的新的抗风湿剂。

公开(公告)号：CN1099751A

公开(公告)日：1995-03-08

申请号：CN94105933.2

申请日：1994-05-26

Applicant: 盐野义制药株式会社

Inventor： 芳贺展弘 ,  稻垣雅尚 ,  松本佐市 ,  鎌田进

IPC: C07D275/02

CPC classification number: C07D275/02 ,  C07D265/02 ,  C07D291/06 ,  Y02P20/55

Abstract: 一种选择性制备特定的式III的立体异构的亚苄基衍生物的方法，其中各取代基和符号均如说明书中所定义。

公开(公告)号：CN1092414A

公开(公告)日：1994-09-21

申请号：CN93120706.1

申请日：1993-10-28

Applicant: 盐野义制药株式会社

Inventor： 松本佐市 ,  钓达男 ,  稻垣雅尚 ,  城山博邦

IPC: C07D275/02 ,  A61K31/425

CPC classification number: C07D275/02 ,  C07D291/06 ,  C07D417/10

Abstract: 用式I表示的具有抗炎活性的亚苄基衍生物：其中A是-CH2-或-CH2CH2-；B是一个键或-CH2-，-CHOH-、-CO-、-O-，或A和B可以在一起形成-CH＝CH-；D是＝N-或＝CH-；R1和R2各自是氢、低级烷基或低级烷氧基；R3是氢、低级烷基、环烷基、低级烷氧基、芳烷氧基、杂芳烷氧基、低级烷基羰基、芳羰基、取代或未取代的氨基甲酰基，或下式基团：-(CH2)n-R4其中R4是氢、羟基、取代或未取代的氨基、芳基、杂芳基、羟基羰基或低级烷氧羰基；n是0—3整数。