一种抑制卤氧化铋光腐蚀的方法

    公开(公告)号:CN112774700A

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN202110105290.6

    申请日:2021-01-26

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种抑制卤氧化铋光腐蚀的方法,属于光催化材料技术领域。纯的卤氧化铋在光催化过程中会在其表面生成一圈钝化层(Bi2O3),严重阻碍了其光催化性能的表达。本发明通过原位光沉积硝酸钴,生成的氧化钴助催化剂与卤素原子发生合金化效应,形成三氧化钴铋(BiCoO3)合金,包裹住卤氧化铋,有效抑制了其光腐蚀的同时提高了其光催化性能。本发明提供的制备方法,材料廉价,过程简单,条件可控,所得的三氧化钴铋(BiCoO3)合金能有效改善卤氧化铋的光电化学性质,促进其电荷分离,并提高其光催化性能。

    一种抑制卤氧化铋光腐蚀的方法

    公开(公告)号:CN112774700B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN202110105290.6

    申请日:2021-01-26

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种抑制卤氧化铋光腐蚀的方法,属于光催化材料技术领域。纯的卤氧化铋在光催化过程中会在其表面生成一圈钝化层(Bi2O3),严重阻碍了其光催化性能的表达。本发明通过原位光沉积硝酸钴,生成的氧化钴助催化剂与卤素原子发生合金化效应,形成三氧化钴铋(BiCoO3)合金,包裹住卤氧化铋,有效抑制了其光腐蚀的同时提高了其光催化性能。本发明提供的制备方法,材料廉价,过程简单,条件可控,所得的三氧化钴铋(BiCoO3)合金能有效改善卤氧化铋的光电化学性质,促进其电荷分离,并提高其光催化性能。

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