公开(公告)号：CN101462957A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200810184087.7

申请日：2008-12-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 崔相俊 ,  赵娟振 ,  辛乘旭 ,  金惠元

IPC: C07C69/54 ,  C08F220/18 ,  C08F222/14 ,  C08F220/30 ,  G03F7/028

CPC classification number: C07C69/54 ,  C07C2603/24 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明涉及一种芳族(甲基)丙烯酸酯化合物和一种光敏聚合物、以及一种抗蚀剂组合物。芳族(甲基)丙烯酸酯化合物是由右边化学式1表示的具有α－羟基的芳族(甲基)丙烯酸酯。在右边化学式1中，每种取代基与在说明书中的限定相同。本发明的芳族(甲基)丙烯酸酯化合物光敏聚合物在光刻工艺中具有对于底层极好的粘合特性和极好的抗干蚀刻性，并且因此可以用来制备具有极好光刻特性的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：CN101462956A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200810184083.9

申请日：2008-12-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 崔相俊 ,  赵娟振 ,  辛乘旭 ,  金惠元

IPC: C07C69/54 ,  C08F222/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/028

CPC classification number: C07C69/54 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/26 ,  C07C2603/50 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明涉及具有对酸不稳定芳族基团的(甲基)丙烯酸酯、光敏聚合物、以及包括其的光刻胶组合物。所述(甲基)丙烯酸酯由右列式1表示，在式1中，每个取代基具有与说明书中相同的定义。具有对酸不稳定芳族基团的(甲基)丙烯酸酯在酸催化剂存在下易于分解，并且能够提供对于下层具有优异的粘合性能和在光刻印刷过程中的干法蚀刻抗性的光敏聚合物。