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公开(公告)号：CN102122011A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN201110006578.4
申请日：2011-01-05
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 泽木大辅
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供一种偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备。所述偏光元件具备：基板；多个反射层，其位于上述基板上，隔开一定间隔被排列成带状；形成在上述反射层上的电介质层；以及吸收层，其位于上述电介质层上，朝向邻接的一方的上述反射层侧和邻接的另一方的上述反射层侧分别具有凸部。
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公开(公告)号：CN100458496C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200480018230.5
申请日：2004-06-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 使激光在眼镜镜片(L1)内部会聚，形成标记(10A)。标记(10A)形成为与眼镜镜片(L1)的光轴大致平行。并且，通过使眼镜镜片(L2)的光学基准位置(L0)和标记装置(3)的基准位置(T)吻合来进行对准，把眼镜镜片(L2)安装在标记装置(3)的保持部(11)上，之后根据眼镜镜片(L2)的光学基准位置(L0)进行定位。然后，使眼镜镜片(L2)移动到标记开始位置，进行标记。通过根据形成在眼镜镜片(L2)内的一对暗标记，进行眼镜镜片(L2)的位置调整，可使光学基准位置(L0)和标记装置(3)的基准位置(T)一致。
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公开(公告)号：CN102162871B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201110025379.8
申请日：2011-01-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 泽木大辅
CPC classification number: H04N9/3167 , G02B5/008 , G02B5/3058 , G03B21/2073
Abstract: 本发明提供一种偏光元件及投影仪。偏光元件具备基板和在上述基板上排列的多个栅格部，上述栅格部具有沿该栅格部的长度方向以小于入射光的波长的周期交替排列的凸部及凹部，在上述多个栅格部中，上述凸部的排列周期P为一定，同时上述凸部的排列周期P与上述凸部的长度L的比率(D＝L/P)为一定，上述凸部的高度在相邻的上述栅格部中彼此不同。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1813214A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200480018230.5
申请日：2004-06-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 使激光在眼镜镜片(L1)内部会聚，形成标记(10A)。标记(10A)形成为与眼镜镜片(L1)的光轴大致平行。并且，通过使眼镜镜片(L2)的光学基准位置(L0)和标记装置(3)的基准位置(T)吻合来进行对准，把眼镜镜片(L2)安装在标记装置(3)的保持部(11)上，之后根据眼镜镜片(L2)的光学基准位置(L0)进行定位。然后，使眼镜镜片(L2)移动到标记开始位置，进行标记。通过根据形成在眼镜镜片(L2)内的一对暗标记，进行眼镜镜片(L2)的位置调整，可使光学基准位置(L0)和标记装置(3)的基准位置(T)一致。
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公开(公告)号：CN1740915A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200510075901.8
申请日：2005-06-02
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 提供一种可以以低成本实现比可见光波长还短的数量级的微细加工的技术。一种微细结构体的制造方法，包括：感光膜形成工序，在被加工体(100)的上侧形成感光膜；曝光工序，使比可见光波长小的波长的2束激光束(B1、B2)交叉来产生干涉光、通过照射该干涉光来曝光上述感光膜；显影工序，显影曝光后的上述感光膜、在上述感光膜上呈现与上述干涉光的图案对应的形状；蚀刻工序，以显影后的上述感光膜为蚀刻掩膜进行蚀刻来加工上述被加工体。
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公开(公告)号：CN102122010B
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201010623804.9
申请日：2010-12-31
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 泽木大辅
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3025
Abstract: 本发明涉及偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备。偏光元件具备：基板；在所述基板上隔开一定间隔且排列成带状的多个反射层；形成于所述反射层上的电介体层；以及无机微粒子层，其形成在所述电介体层上，由无机微粒子形成，并且具有分别朝向邻接的一个所述反射层侧和邻接的另一个所述反射层侧的凸部，其中，所述无机微粒子具有所述反射层的排列方向上的微粒子径长大于与所述反射层的排列方向正交的方向上的微粒子径长的形状各向异性。
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公开(公告)号：CN102122011B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201110006578.4
申请日：2011-01-05
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 泽木大辅
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供一种偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备。所述偏光元件具备：基板；多个反射层，其位于上述基板上，隔开一定间隔被排列成带状；形成在上述反射层上的电介质层；以及吸收层，其位于上述电介质层上，朝向邻接的一方的上述反射层侧和邻接的另一方的上述反射层侧分别具有凸部。
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公开(公告)号：CN102162871A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110025379.8
申请日：2011-01-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 泽木大辅
CPC classification number: H04N9/3167 , G02B5/008 , G02B5/3058 , G03B21/2073
Abstract: 本发明提供一种偏光元件及投影仪。偏光元件具备基板和在上述基板上排列的多个栅格部，上述栅格部具有沿该栅格部的长度方向以小于入射光的波长的周期交替排列的凸部及凹部，在上述多个栅格部中，上述凸部的排列周期P为一定，同时上述凸部的排列周期P与上述凸部的长度L的比率(D＝L/P)为一定，上述凸部的高度在相邻的上述栅格部中彼此不同。
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