公开(公告)号：CN1321973A

公开(公告)日：2001-11-14

申请号：CN01116803.X

申请日：2001-03-02

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 安芸佑一 ,  近藤高男 ,  武田实 ,  山本真伸 ,  增原慎 ,  柏木俊行

IPC: G11B9/10

CPC classification number: G11B7/261 ,  G11B23/0057 ,  H01J37/301 ,  H01J2237/188

Abstract: 提供一种电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体,其能够有效地避免电子束的散射并避免提供大规模的真空室。电子束照射装置包括:支持受电子束照射体(3)的支持部分(4);经微小间隔与电子束照射体相对的电子束照射头(6),电子束照射头具有电子束发射孔(5)。在电子束照射头中提供与电子束发射孔(5)相通的电子束路径(20),此外,围绕电子束发射孔形成一个或多个从面对电子束照射体的电子束照射头的表面开口的环形吸气槽(61)和(62)。真空泵连接于电子束路径和环形吸气槽,把电子束路径维持在高真空状态。