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公开(公告)号：CN1227569C
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN00807106.3
申请日：2000-04-28
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F214/186 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0395
Abstract: 本发明描述了用于显微光刻术的氟化聚合物、光刻胶和相关方法。这些聚合物和光刻胶包含了同时赋予这些材料以高紫外线(UV)透明性和在碱性介质中的显影能力的氟代醇官能团。本发明的材料尤其在短波长，例如157nm具有高UV透明性，这使得它们在这些短波长下的光刻术中是高度有用的。
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公开(公告)号：CN1364165A
公开(公告)日：2002-08-14
申请号：CN00807065.2
申请日：2000-05-01
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
IPC: C07D303/48 , C07D303/08 , C07D301/26 , C07D301/03 , C08G65/00 , C08F16/26 , C08G65/22
CPC classification number: C07D303/48 , C07D303/08 , C08F16/26 , C08G65/226
Abstract: 描述了生产部分氟化的环氧化物以及这些多氟化环氧化物的相应聚醚均聚物的一种方法。还描述了将氟代醇官能团作为侧基结合到聚合物中的一种方法。还描述了某些多氟化烯烃。这些多氟化环氧化物和有关的聚合物以及涉及它们的方法在光刻胶,特别是在低紫外波长(例如,157nm)下使用的平板印刷光刻胶中均是有用的。
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公开(公告)号：CN1357116A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN00807106.3
申请日：2000-04-28
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F214/186 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0395
Abstract: 本发明描述了用于显微光刻术的氟化聚合物、光刻胶和相关方法。这些聚合物和光刻胶包含了同时赋予这些材料以高紫外线(UV)透明性和在碱性介质中的显影能力的氟代醇官能团。本发明的材料尤其在短波长,例如157nm具有高UV透明性,这使得它们在这些短波长下的光刻术中是高度有用的。
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公开(公告)号：CN1224620C
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：CN00807065.2
申请日：2000-05-01
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
IPC: C07D303/48 , C07D303/08 , C07D301/26 , C07D301/03 , C08G65/00 , C08F16/26 , C08G65/22
CPC classification number: C07D303/48 , C07D303/08 , C08F16/26 , C08G65/226
Abstract: 描述了生产部分氟化的环氧化物以及这些多氟化环氧化物的相应聚醚均聚物的一种方法。还描述了将氟代醇官能团作为侧基结合到聚合物中的一种方法。还描述了某些多氟化烯烃。这些多氟化环氧化物和有关的聚合物以及涉及它们的方法在光刻胶，特别是在低紫外波长(例如，157nm)下使用的平板印刷光刻胶中均是有用的。
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