公开(公告)号：CN106028810A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201580010848.5

申请日：2015-02-25

Applicant: 组合化学工业株式会社

Inventor： 新井宏和 ,  中岛由纪子 ,  池内利佑 ,  佐藤敦

IPC: A01N25/28 ,  A01N25/12 ,  A01N25/26 ,  A01N25/32 ,  A01N43/80 ,  A01P13/02

CPC classification number: A01N43/80 ,  A01N25/28 ,  A01N57/20

Abstract: 本发明提供一种茎叶处理用农药组合物，其在用罗克杀草砜(Pyroxasulfone)对旱田进行了茎叶处理的情况下，不会引起对栽培作物的附着药害，安全性高，且具有广泛的除草谱。一种茎叶处理用农药组合物，其包含罗克杀草砜和隐蔽罗克杀草砜的隐蔽物质，其中，所述隐蔽物质对罗克杀草砜进行了包覆或使其微胶囊化，使其在茎叶施药时不会对栽培作物引起附着药害。

公开(公告)号：CN115052856B

公开(公告)日：2024-10-08

申请号：CN202180012114.6

申请日：2021-01-29

Applicant: 组合化学工业株式会社

Inventor： 田中皓祐 ,  樱井栄 ,  榎本幸浩 ,  鸟谷部启二 ,  新井宏和 ,  中根悠辅 ,  松田武 ,  高根泽阳 ,  小池周佑 ,  北原骏介 ,  务川重之

IPC: C07C235/46 ,  C07C271/16 ,  C07C311/09 ,  C07C317/18 ,  C07C323/12 ,  C07C323/17 ,  C07C327/48 ,  C07C333/04 ,  A01N37/18 ,  A01P5/00 ,  A01P7/02 ,  A01P7/04 ,  C07F7/12

Abstract: 本发明提供具有优异的有害生物防除效果的3‑烷氧基苯甲酰胺衍生物或其盐、含有其作为有效成分的有害生物防除剂及制造中间体。提供下述通式[I]所示的3‑烷氧基苯甲酰胺衍生物或其盐；以及有害生物防除剂，其特征在于，所述有害生物防除剂含有其作为有效成分：#imgabs0#[式中，A表示氧原子或硫原子；G表示氢原子、卤素原子或C1至C6烷基；R1表示C1至C6烷基、C3至C6环烷基等；R2表示氢原子等；R3表示卤素原子、C1至C6烷基等；R4表示卤素原子、C1至C6烷基等；R5表示C1至C12烷基等]。

公开(公告)号：CN117378604A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202311104535.9

申请日：2015-02-25

Applicant: 组合化学工业株式会社

Inventor： 新井宏和 ,  中岛由纪子 ,  池内利佑 ,  佐藤敦

IPC: A01N25/28 ,  A01N25/32 ,  A01N43/80 ,  A01P13/00

Abstract: 本发明提供一种茎叶处理用农药组合物，其在用砜吡草唑(Pyroxasulfon e)对旱田进行了茎叶处理的情况下，不会引起对栽培作物的附着药害，安全性高，且具有广泛的除草谱。一种茎叶处理用农药组合物，其包含砜吡草唑和隐蔽砜吡草唑的隐蔽物质，其中，所述隐蔽物质对砜吡草唑进行了包覆或使其微胶囊化，使其在茎叶施药时不会对栽培作物引起附着药害。

公开(公告)号：CN115052856A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202180012114.6

申请日：2021-01-29

Applicant: 组合化学工业株式会社

Inventor： 田中皓祐 ,  樱井栄 ,  榎本幸浩 ,  鸟谷部启二 ,  新井宏和 ,  中根悠辅 ,  松田武 ,  高根泽阳 ,  小池周佑 ,  北原骏介 ,  务川重之

IPC: C07C235/46 ,  C07C271/16 ,  C07C311/09 ,  C07C317/18 ,  C07C323/12 ,  C07C323/17 ,  C07C327/48 ,  C07C333/04 ,  A01N37/18 ,  A01P5/00 ,  A01P7/02 ,  A01P7/04 ,  C07F7/12

Abstract: 本发明提供具有优异的有害生物防除效果的3‑烷氧基苯甲酰胺衍生物或其盐、含有其作为有效成分的有害生物防除剂及制造中间体。提供下述通式[I]所示的3‑烷氧基苯甲酰胺衍生物或其盐；以及有害生物防除剂，其特征在于，所述有害生物防除剂含有其作为有效成分：[式中，A表示氧原子或硫原子；G表示氢原子、卤素原子或C1至C6烷基；R1表示C1至C6烷基、C3至C6环烷基等；R2表示氢原子等；R3表示卤素原子、C1至C6烷基等；R4表示卤素原子、C1至C6烷基等；R5表示C1至C12烷基等]。