公开(公告)号：CN112592052A

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN202011350783.8

申请日：2014-04-10

Applicant: 肖特公开股份有限公司

Inventor： 奥利弗·霍赫赖因 ,  英格·布格尔 ,  伊姆加德·威斯腾伯格 ,  约亨·阿尔克马佩尔 ,  格德·鲁达什 ,  卡塔琳娜·阿尔特 ,  戈登·基斯尔 ,  京特·保勒斯

IPC: C03C3/093 ,  C03C3/095 ,  C03C3/097 ,  C03C3/118 ,  C03C21/00

Abstract: 本发明涉及化学性预加应力的高刮划容忍度玻璃元件及其制造方法。具体地，本发明提供一种化学性预加应力的高刮划容忍度玻璃元件及其制造方法，其在化学性预加应力之后除了具有针对压应力和离子交换深度的高数值之外还具有突出的刮划容忍度。该玻璃元件的玻璃含有SiO2、Al2O3、B2O3、ZrO2和Na2O等作为组成部分，其中，氟化物的含量小于0.2％、优选小于0.05％，其中，在玻璃元件的表面上，能至少部分地用钾离子来交换钠离子，从而能在表面上产生用来给玻璃元件化学性预加应力的压应力区。

公开(公告)号：CN104098269A

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：CN201410143772.0

申请日：2014-04-10

Applicant: 肖特公开股份有限公司

Inventor： 奥利弗·霍赫赖因 ,  英格·布格尔 ,  伊姆加德·威斯腾伯格 ,  约亨·阿尔克马佩尔 ,  格德·鲁达什 ,  卡塔琳娜·阿尔特 ,  戈登·基斯尔 ,  京特·保勒斯

IPC: C03C3/093 ,  C03C3/095 ,  C03C3/097 ,  C03C3/118

CPC classification number: C03C3/093 ,  C03C4/18 ,  C03C21/002 ,  Y10T428/315

Abstract: 本发明提供一种化学性预加应力的高刮划容忍度玻璃元件及其制造方法，其在化学性预加应力之后除了具有针对压应力和离子交换深度的高数值之外还具有突出的刮划容忍度。该玻璃元件的玻璃含有SiO2、Al2O3、B2O3、ZrO2和Na2O等作为组成部分，其中，氟化物的含量小于0.2%、优选小于0.05%，其中，在玻璃元件的表面上，能至少部分地用钾离子来交换钠离子，从而能在表面上产生用来给玻璃元件化学性预加应力的压应力区。

公开(公告)号：CN101925551A

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200880125472.2

申请日：2008-12-05

Applicant: 肖特公开股份有限公司

Inventor： 加布里埃利·罗默尔-朔伊尔曼 ,  格哈德·韦伯 ,  因卡·亨策 ,  约尔格·舒马赫尔 ,  斯蒂芬·鲍尔 ,  哈里·恩格尔曼 ,  玛塔·克尔扎卡 ,  伊姆加德·威斯腾伯格 ,  彼得·察赫曼

IPC: C03C17/34 ,  G02B1/11

CPC classification number: C03C17/3411 ,  C03C2217/425 ,  C03C2218/113 ,  G02B1/111 ,  G02B1/113 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/24997 ,  Y10T428/24999 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/265

Abstract: 本发明涉及具有溶胶-凝胶层的基材和生产复合材料的方法，其中在所述溶胶-凝胶层和所述基材之间布置阻挡层。本发明特别涉及具有多孔单层减反射层的玻璃基材。所述多孔减反射层和所述Na扩散阻挡层二者都优选由石英玻璃(SiO2)制成。