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公开(公告)号：CN1789343B
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN200510132012.0
申请日：2005-12-16
Applicant: 花王株式会社 , 日本光研工业株式会社
CPC classification number: C09C1/0021 , A61K8/0266 , A61K8/19 , A61K8/26 , A61K2800/412 , A61K2800/436 , A61K2800/61 , A61K2800/651 , A61Q1/02 , C01P2004/20 , C01P2004/84 , C01P2004/86 , C01P2006/60 , C01P2006/63 , C01P2006/64 , C09C1/0078 , C09C2200/1004 , C09C2200/1008 , C09C2200/102 , C09C2200/1025 , C09C2200/24 , C09C2200/301 , C09C2200/302 , C09C2200/306 , C09C2200/505 , C09D5/36 , C09D11/037
Abstract: 本发明提供在薄片状粉体的表面覆盖有有色金属或有色金属氧化物的珠光颜料，在黑色人造革表面以0.05mg/cm2涂敷该珠光颜料，使用在入射光侧安装有S偏光板、在受光侧安装有P偏光板的分光测色计，在C光产生的2°视角的受光条件下测定珠光颜料的反射光量时，相对测定试样面的法线方向以45°入射，在法线方向受光的颜料的反射光的a*值与b*值的绝对值在5以下，及含有该颜料的上妆用化妆材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1789343A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510132012.0
申请日：2005-12-16
Applicant: 花王株式会社 , 日本光研工业株式会社
CPC classification number: C09C1/0021 , A61K8/0266 , A61K8/19 , A61K8/26 , A61K2800/412 , A61K2800/436 , A61K2800/61 , A61K2800/651 , A61Q1/02 , C01P2004/20 , C01P2004/84 , C01P2004/86 , C01P2006/60 , C01P2006/63 , C01P2006/64 , C09C1/0078 , C09C2200/1004 , C09C2200/1008 , C09C2200/102 , C09C2200/1025 , C09C2200/24 , C09C2200/301 , C09C2200/302 , C09C2200/306 , C09C2200/505 , C09D5/36 , C09D11/037
Abstract: 本发明提供在薄片状粉体的表面覆盖有有色金属或有色金属氧化物的珠光颜料，在黑色人造革表面以0.05mg/cm2涂敷该珠光颜料，使用在入射光侧安装有S偏光板、在受光侧安装有P偏光板的分光测色计，在C光产生的2°视角的受光条件下测定珠光颜料的反射光量时，相对测定试样面的法线方向以45°入射，在法线方向受光的颜料的反射光的a*值与b*值的绝对值在5以下，及含有该颜料的上妆用化妆材料。
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公开(公告)号：CN1789342B
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200510132011.6
申请日：2005-12-16
Applicant: 花王株式会社 , 日本光研工业株式会社
Abstract: 本发明提供在薄片状粉体的表面覆盖有有色金属或有色金属氧化物、再覆盖有无色金属或无色金属氧化物的珠光颜料，其特征在于：在黑色人造革表面以0.05mg/cm2涂敷该珠光颜料，使用在入射光侧装有S偏光板、在受光侧装有P偏光板的分光测色计，在C光产生的2°视角的受光条件下测定珠光颜料的反射光量时，相对测定试样面的法线方向以45°入射，在法线方向受光的颜料的反射光的a*值与b*值的绝对值在10以下，以及含有其的上妆用化妆材料。
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公开(公告)号：CN1789342A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510132011.6
申请日：2005-12-16
Applicant: 花王株式会社 , 日本光研工业株式会社
Abstract: 本发明提供在薄片状粉体的表面覆盖有有色金属或有色金属氧化物、再覆盖有无色金属或无色金属氧化物的珠光颜料，其特征在于：在黑色人造革表面以0.05mg/cm2涂敷该珠光颜料，使用在入射光侧装有S偏光板、在受光侧装有P偏光板的分光测色计，在C光产生的2°视角的受光条件下测定珠光颜料的反射光量时，相对测定试样面的法线方向以45°入射，在法线方向受光的颜料的反射光的a*值与b*值的绝对值在10以下，以及含有其的上妆用化妆材料。
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公开(公告)号：CN1310324A
公开(公告)日：2001-08-29
申请号：CN01101212.9
申请日：2001-01-12
Applicant: 花王株式会社
IPC: F26B25/00
CPC classification number: B29B9/04 , B29K2105/251 , F26B17/282 , F26B17/284
Abstract: 本发明提供一种高产量的制造例如以聚羧酸为基的共聚物的粉末的方法。本发明的方法包括在一支承上形成以聚羧酸为基的共聚物等的粘性薄膜,降低所述薄膜的粘性,以及将所述薄膜粉碎。
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公开(公告)号：CN1206506C
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN01101212.9
申请日：2001-01-12
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: B29B9/04 , B29K2105/251 , F26B17/282 , F26B17/284
Abstract: 本发明提供一种高产量的制造例如以聚羧酸为基的共聚物的粉末的方法。本发明的方法包括：将聚合物溶液或分散剂施加在一支承的表面上，在该支承上形成以聚羧酸为基的共聚物等的粘性薄膜，降低该薄膜的粘性，以及将薄膜粉碎。
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