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发明公开
光敏成像装置及其制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN119133160A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202310701868.3

申请日：2023-06-13

Applicant: 荷兰商宝丽来智财有限公司

Inventor： 陈以哲 , 江奇展 , 杨子欣 , 杜柏宏 , 梁荣昌

IPC: H01L25/075 , H01L33/58 , H01L33/60

Abstract: 本发明是关于一种光敏成像装置，包括一基板、多个发光二极管、一遮光层、且可选择性地包含一平坦层和/或一抗刮层。其中，多个发光二极管设置于基板上；遮光层设置于多个发光二极管上并具有多个第一开孔，且多个第一开孔分别对应多个发光二极管的发光区域；选择性的平坦层如在该多个第一开孔形成之后未被移除，可能设置于多个发光二极管之间和/或基板与遮光层之间；选择性的抗刮层设置于遮光层上。此外，本发明还关于一种制备上述光敏成像装置的方法。

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