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公开(公告)号:CN106956212B
公开(公告)日:2018-12-04
申请号:CN201710160779.7
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
IPC: B24B37/10 , B24B37/04 , B24B37/005 , B24B37/015 , B24D18/00 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法,其特征包括:(1)制备陶瓷抛光盘,(2)配置碱性抛光液,(3)将氮化铝晶片用石蜡粘结在氧化铝基板上,放置于所制备的抛光盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用铁氰化钾作为强氧化剂,使氮化铝的表面被氧化形成氧化膜,再利用陶瓷抛光盘对其表面进行磨削,去除表面氧化层,从而达到抛光的作用。本方法中的陶瓷抛光盘耐腐蚀,硬度高,韧性强,磨削效率高,抛光速率快。采用碱性抛光液,能有效避免加工设备腐蚀,使得加工性能稳定,同时保证得到的氮化铝表面光洁度高,损伤低。
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公开(公告)号:CN106956212A
公开(公告)日:2017-07-18
申请号:CN201710160779.7
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
IPC: B24B37/10 , B24B37/04 , B24B37/005 , B24B37/015 , B24D18/00 , C09G1/02
CPC classification number: B24B37/107 , B24B37/0056 , B24B37/015 , B24B37/044 , B24D18/0009 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法,其特征包括:(1)制备陶瓷抛光盘,(2)配置碱性抛光液,(3)将氮化铝晶片用石蜡粘结在氧化铝基板上,放置于所制备的抛光盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用铁氰化钾作为强氧化剂,使氮化铝的表面被氧化形成氧化膜,再利用陶瓷抛光盘对其表面进行磨削,去除表面氧化层,从而达到抛光的作用。本方法中的陶瓷抛光盘耐腐蚀,硬度高,韧性强,磨削效率高,抛光速率快。采用碱性抛光液,能有效避免加工设备腐蚀,使得加工性能稳定,同时保证得到的氮化铝表面光洁度高,损伤低。
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公开(公告)号:CN207202655U
公开(公告)日:2018-04-10
申请号:CN201720262265.8
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本实用新型涉及一种带有滑轨的可伸缩晾晒架,属于轻工日用领域。一种可伸缩晾晒架包括了旋转挂钩,连环锁扣,支架轨道,伸缩支架,晾晒夹,旋转挂钩通过连环锁扣和支架轨道在四个方向上相连接,四个伸缩支架分别安装在支架轨道中,可在轨道中自由伸缩。晾晒夹安装在伸缩支架上,可以同支架一起运动,也可在轨道上自由滑动和固定。晾晒时将伸缩支架展开,扩大晾衣的空间。闲置时可将伸缩支架收入支架轨道中,节省放置空间。
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