一种离子溅射栅网电极绝缘性能与材料特性的模拟评估装置和方法

    公开(公告)号:CN119902038A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202510110004.3

    申请日:2025-01-23

    Abstract: 本发明公开了一种离子溅射栅网电极绝缘性能与材料特性的模拟评估装置和方法,属于离子推力器技术领域。该装置设置有两个绝缘支架,两个绝缘支架分别用于安装模拟屏栅和模拟加速栅,模拟屏栅和模拟加速栅上设置有对应的孔洞,能够真实的模拟屏栅和加速栅。将该装置置于溅射腔室内,通过离子源对模拟屏栅和模拟加速栅进行轰击,进行溅射试验;对溅射后的模拟屏栅和模拟加速栅进行场致发射测试和击穿测试,进一步的能够研究模拟屏栅的绝缘性能,同时能够通过扫描电子显微镜和激光扫描共聚焦显微镜对模拟屏栅和模拟加速栅进行形貌特征分析。

    一种离子溅射加速电极表面侵蚀系统和方法

    公开(公告)号:CN119959118A

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202510110033.X

    申请日:2025-01-23

    Abstract: 本发明公开了一种离子溅射加速电极表面侵蚀系统和方法,属于离子推力器技术领域。该系统由真空腔体、离子源及外围设备、靶电极位移及加压装置、检测表征装置等多部分组成,各部分协同配合工作,完成实验目标。一方面通过离子源外围设备能够控制真空腔体中离子源输出的离子能量和束流,并调节对应的大小,加快试验过程;另一方面能够将靶电极设计为掩膜和靶材复合的形式,溅射过程中,掩膜遮挡一部分靶材,使得离子溅射裸露的靶材,加快试验过程,本发明采用与实际离子推力器栅极组件接近的靶电极设计,精准模拟栅极在太空环境中的侵蚀行为。

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