公开(公告)号：CN112342369A

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：CN202011363484.8

申请日：2020-11-27

Applicant: 西安天瑞达光电技术股份有限公司

Inventor： 李国杰 ,  聂勇强 ,  何艳磊 ,  李庆 ,  宁英楠 ,  黄英杰

IPC: C21D10/00

Abstract: 本发明公开了一种基于反射聚焦镜的激光冲击强化装置，包括激光源、导光装置、反射聚焦系统、反射聚焦夹持装置、工件夹持装置、工作台、约束层加载机构、控制系统和金属工件。本发明主要针对现有的大能量激光冲击强化设备体积较大，硬光路导光不灵活，无法加工沟槽拐角及内孔部分等不足，提供的一种基于反射聚焦镜的激光冲击强化装置。

公开(公告)号：CN213924952U

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：CN202022793675.X

申请日：2020-11-27

Applicant: 西安天瑞达光电技术股份有限公司

Inventor： 李国杰 ,  聂勇强 ,  何艳磊 ,  李庆 ,  宁英楠 ,  黄英杰

IPC: C21D10/00

Abstract: 本实用新型公开了一种基于反射聚焦镜的激光冲击强化装置，包括激光源、导光装置、反射聚焦系统、反射聚焦夹持装置、工件夹持装置、工作台、约束层加载机构、控制系统和金属工件。本实用新型主要针对现有的大能量激光冲击强化设备体积较大，硬光路导光不灵活，无法加工沟槽拐角及内孔部分等不足，提供的一种基于反射聚焦镜的激光冲击强化装置。