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公开(公告)号:CN119836865A
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202380064465.0
申请日:2023-09-29
Applicant: 诺瓦尔德股份有限公司
Inventor: 托马斯·斯坦内特
Abstract: 本发明涉及一种半导体材料、用于制备所述半导体材料的层的方法以及包含所述半导体材料的有机半导体器件。本发明还涉及一种化合物。
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公开(公告)号:CN119836865A
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202380064465.0
申请日:2023-09-29
Applicant: 诺瓦尔德股份有限公司
Inventor: 托马斯·斯坦内特
Abstract: 本发明涉及一种半导体材料、用于制备所述半导体材料的层的方法以及包含所述半导体材料的有机半导体器件。本发明还涉及一种化合物。