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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111712198A
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN201980012963.4
申请日：2019-03-15
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本发明提供了一种用于X射线成像的方法，该方法包括基于从光学传感器获得的相关区域的光学图像，确定与对象中的相关区域相对应的一个或多个预拍摄参数。该方法还包括基于一个或多个预拍摄参数，控制X射线装置使用第一X射线剂量生成预拍摄X射线图像。该方法还包括基于预拍摄X射线图像确定至少一个主拍摄参数。该方法包括基于至少一个主拍摄参数，控制X射线装置使用大于第一X射线剂量的第二X射线剂量生成主拍摄X射线图像。
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公开(公告)号：CN109464153A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201710805529.4
申请日：2017-09-08
Applicant: 通用电气公司
IPC: A61B6/00
Abstract: 一种辐射成像系统包括辐射源，其位于所述检测目标的第一侧且用于发射多个射线；和探测器，其位于所述检测目标的第二侧且用于检测来自所述辐射源的多个射线。所述辐射成像系统还包括第一传感器，其位于所述检测目标的第一侧且用于获取所述检测目标的相关信息；和第二传感器，其位于所述探测器上且用于获取探测器位置的相关信息。所述辐射成像系统还包括控制器，其用于基于所述第一传感器获取的所述检测目标的相关信息和所述第二传感器获取的所述探测器位置的相关信息重建三维场景，且基于所述重建的三维场景去控制所述辐射源和所述探测器至少一个的操作。同时还公开了一种控制所述辐射成像系统的方法。
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公开(公告)号：CN111712198B
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN201980012963.4
申请日：2019-03-15
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本发明提供了一种用于X射线成像的方法，该方法包括基于从光学传感器获得的相关区域的光学图像，确定与对象中的相关区域相对应的一个或多个预拍摄参数。该方法还包括基于一个或多个预拍摄参数，控制X射线装置使用第一X射线剂量生成预拍摄X射线图像。该方法还包括基于预拍摄X射线图像确定至少一个主拍摄参数。该方法包括基于至少一个主拍摄参数，控制X射线装置使用大于第一X射线剂量的第二X射线剂量生成主拍摄X射线图像。
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公开(公告)号：CN109464153B
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN201710805529.4
申请日：2017-09-08
Applicant: 通用电气公司
IPC: A61B6/00
Abstract: 一种辐射成像系统包括辐射源，其位于所述检测目标的第一侧且用于发射多个射线；和探测器，其位于所述检测目标的第二侧且用于检测来自所述辐射源的多个射线。所述辐射成像系统还包括第一传感器，其位于所述检测目标的第一侧且用于获取所述检测目标的相关信息；和第二传感器，其位于所述探测器上且用于获取探测器位置的相关信息。所述辐射成像系统还包括控制器，其用于基于所述第一传感器获取的所述检测目标的相关信息和所述第二传感器获取的所述探测器位置的相关信息重建三维场景，且基于所述重建的三维场景去控制所述辐射源和所述探测器至少一个的操作。同时还公开了一种控制所述辐射成像系统的方法。
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