公开(公告)号：CN106312380B

公开(公告)日：2019-11-29

申请号：CN201610500454.4

申请日：2016-06-30

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.E.格雷厄姆 ,  J.B.小迪顿 ,  M.A.谢弗顿 ,  T.C.阿德科克 ,  A.D.迪尔 ,  M.G.琼斯 ,  P.辛赫

IPC: B23K37/00 ,  B23K37/04

Abstract: 一种方法，其包括利用添加制造(AM)系统来添加制造具有定位器元件的子构件。使用AM系统的控制系统来用于定位定位器元件的第一位置。基于定位，将另一个子构件的一部分有选择地放置在定位器元件附近。然后在一个区域将第二子构件附接至第一子构件，其中该区域基于从控制系统知晓的定位，以便制作出构件。一种构件，其包括具有AM定位器元件的第一子构件；以及附接至第一子构件的第二子构件，其中定位器元件在与第一子构件相同的添加制造构建室内附接至第二子构件。

公开(公告)号：CN102809497B

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201210180339.5

申请日：2012-06-04

Applicant: 通用电气公司

Inventor： C.W.罗斯 ,  J.B.小迪顿

IPC: G01N1/28 ,  G01N33/00

Abstract: 本发明涉及用于产出构件的分析的具有设计缺陷的工程构件的制造。公开了具有设计缺陷的工程构件(60,100)和具有设计缺陷的工程构件(60,100)用来评估产出构件的使用。制造具有已知缺陷的测试构件(70,300)。该已知缺陷是被故意地包括在测试构件(70,300)中的瑕疵。然后分析测试构件，以获得缺陷的测试轮廓(40)。另外，分析待测试的工程构件(60,100)，以获得产出轮廓(40)。将该产出轮廓(40)与测试轮廓(40)比较，以确定工程构件(60,100)是否具有与已知缺陷对应的缺陷。

公开(公告)号：CN106312380A

公开(公告)日：2017-01-11

申请号：CN201610500454.4

申请日：2016-06-30

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.E.格雷厄姆 ,  J.B.小迪顿 ,  M.A.谢弗顿 ,  T.C.阿德科克 ,  A.D.迪尔 ,  M.G.琼斯 ,  P.辛赫

IPC: B23K37/00 ,  B23K37/04

Abstract: 一种方法，其包括利用添加制造(AM)系统来添加制造具有定位器元件的子构件。使用AM系统的控制系统来用于定位定位器元件的第一位置。基于定位，将另一个子构件的一部分有选择地放置在定位器元件附近。然后在一个区域将第二子构件附接至第一子构件，其中该区域基于从控制系统知晓的定位，以便制作出构件。一种构件，其包括具有AM定位器元件的第一子构件；以及附接至第一子构件的第二子构件，其中定位器元件在与第一子构件相同的添加制造构建室内附接至第二子构件。

公开(公告)号：CN102809497A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201210180339.5

申请日：2012-06-04

Applicant: 通用电气公司

Inventor： C.W.罗斯 ,  J.B.小迪顿

IPC: G01N1/28 ,  G01N33/00

CPC classification number: G01N29/4436 ,  B33Y80/00 ,  G01N21/91 ,  G01N21/93 ,  G01N29/043 ,  G01N29/30 ,  G01N29/4427 ,  G01N2291/0258 ,  G05B19/401

Abstract: 本发明涉及用于产出构件的分析的具有设计缺陷的工程构件的制造。公开了具有设计缺陷的工程构件(60,100)和具有设计缺陷的工程构件(60,100)用来评估产出构件的使用。制造具有已知缺陷的测试构件(70,300)。该已知缺陷是被故意地包括在测试构件(70,300)中的瑕疵。然后分析测试构件，以获得缺陷的测试轮廓(40)。另外，分析待测试的工程构件(60,100)，以获得产出轮廓(40)。将该产出轮廓(40)与测试轮廓(40)比较，以确定工程构件(60,100)是否具有与已知缺陷对应的缺陷。