公开(公告)号：CN105441942A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201510609775.3

申请日：2015-09-23

Applicant: 通用电气公司

Inventor： T.R.雷德 ,  P.T.沃尔什 ,  L.M.莱维 ,  J.C.兰伯特 ,  M.A.德帕尔马三世 ,  J.M.罗马斯

IPC: C23C28/00

CPC classification number: C23C4/02 ,  B05B13/0431 ,  B05D1/32 ,  C23C4/12 ,  C23C4/129 ,  C23C4/134 ,  F05D2230/30 ,  C23C28/00

Abstract: 提供了一种涂覆工艺。该涂覆工艺包括：将构件定位在封闭的涂覆系统内，该封闭的涂覆系统包括涂覆设备，将第一涂层施加到构件的至少一部分上，然后将遮盖物自动地施加至构件，然后将第二涂层施加到构件的至少一部分上。构件在整个工艺期间保持在封闭的涂覆系统内。另一工艺还包括在施加第一涂层之后移除涂覆设备的第一涂覆头部且用遮盖头部替换第一涂覆头部，然后在将遮盖物自动地施加至构件之后移除遮盖头部且用第二涂覆头部替换遮盖头部。